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固態紫外線光源現狀和技術挑戰

第三代半導體產業 ? 來源:第三代半導體產業 ? 2024-01-08 18:02 ? 次閱讀
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在過去的十年里,固態照明行業創造了數萬億美元的收入,引領了全球照明領域的能源革命。然而,傳統的固態照明應用已經日趨成熟,市場也逐漸飽和。新一代紫外特殊照明、植物照明、車用照明、小間距顯示等多元化高端應用市場逐漸興起,成為固態照明領域新的增長點和爆發點。UVA波段365~405nm,2021年需求24萬片,2026年預計達65萬片,固化市場需求穩步遞增;UVC波段265~285nm,2019-2020年疫情下UVC迎來爆發式增長,2021后有所回落進入新的調整期,行家說統計報道,UVC芯片需求2021年約6萬片(2“) ,2026年預計達25萬片。UVB波段300~320nm,除大家熟知的植照和醫療應用外,業內也在積極開拓功率短波固化應用市場。

近期,在第九屆國際第三代半導體論壇(IFWS)&第二十屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA)“光醫療與紫外LED創新應用峰會”上,廈門三安光電有限公司芯片開發部經理兼工藝處處長臧雅姝做了“固態紫外線(UVA/B/C)光源現狀和技術挑戰”的主題報告,分享了最新研究進展。

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紫外LED光源波長從250nm至420nm,跨越了UVA、UVB、UVC三個紫外波段。盡管紫外固態光源已在工業和消費電子方面獲得了廣泛的應用,但是不同波段的紫外LED光源在規模化生產上仍存在不同的技術挑戰。

UVA波段的光源器件當前已可實現較高的電光轉換效率,成功取代汞燈光源成為光固化和光催化等應用領域的第一選擇,但是,UVA固態光源的電光效率的仍有較大的提升空間。

而對于UVB和UVC波段的LED器件,隨著量子結構Al組分含量升高,高晶體質量、高穩定性的材料制備存在的挑戰越來越高。

同時,UVC波段深紫外LED器件如何降低自吸收,突破光提取效率也是提升WPE的關鍵。其研究工作中,重點聚焦高晶體質量AlxGa1-xN外延技術,通過采用NPSS和超晶格插入層等測量減少量子結構的缺陷和應力;并創新引入高反射電極體系來提升LED器件的光子提取效率,從而推動紫外(UVA/B/C)全線產品在性能上獲得突破。

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報告中詳細介紹了UVA芯片技術領域的改進計劃、DUV芯片技術領域的改進計劃、紫外線產品和應用市場的最新進展,涉及385/395 nm波段產品技術階段進展、365 nm波段產品技術階段進展、DUV產品技術階段進展、底層AlN quality 改善材料缺陷密度、AlN Void Structure 增強光提取、高能低耗深紫外元件研發等內容。

其中,高能低耗深紫外元件研發中的“n-Ga(Al)N 電極體系歐姆接觸形成機理研究”,n型高Al組分AlGaN與傳統Ti基金屬電極高溫退火時,界面處易形成TiN島。Au會沿TiN島表面擴散到AlGaN材料內形成AuGa化合物,進而在金-半界面形成空隙、降低金屬電極膜層的平整度。設計n type電極結構優化熔合條件有效改善平整度、同時減少接觸阻抗。探索高效能芯片疊層結構解決高Al組分AlGaN摻雜困難導致載流子遷移率低的問題;優化n hole 尺寸r和n to n距離d實現最低n type接觸阻抗和最佳擴展電流,實現WPE ~17%提升。






審核編輯:劉清

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原文標題:三安光電臧雅姝:固態紫外線光源現狀和技術挑戰

文章出處:【微信號:第三代半導體產業,微信公眾號:第三代半導體產業】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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