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異質(zhì)外延對(duì)襯底的要求是什么?

中科院半導(dǎo)體所 ? 來源:晶格半導(dǎo)體 ? 2024-04-17 09:39 ? 次閱讀

本文介紹了異質(zhì)外延對(duì)襯底的要求是什么。

異質(zhì)外延是一種先進(jìn)的晶體生長(zhǎng)技術(shù),它指的是在一個(gè)特定的襯底材料上生長(zhǎng)出與襯底材料具有不同晶體結(jié)構(gòu)或化學(xué)組成的薄膜或外延層的過程,即:在一種材料的基片上生長(zhǎng)出另一種材料。

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異質(zhì)外延對(duì)襯底有以下要求

晶格匹配:為了實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的異質(zhì)外延,外延層的晶格常數(shù)應(yīng)與襯底材料的晶格常數(shù)盡可能接近。晶格失配會(huì)導(dǎo)致應(yīng)力和缺陷的產(chǎn)生,影響器件的性能。如果失配較大,可能需要采用緩沖層或漸變層來緩解晶格失配帶來的問題。 熱膨脹

系數(shù)匹配:
外延層和襯底材料的熱膨脹系數(shù)應(yīng)相互匹配,以避免外延層由生長(zhǎng)溫度冷卻至 室溫時(shí),產(chǎn)生殘余熱應(yīng)力,界面位錯(cuò),甚至外延 層破裂。

化學(xué)相容性:外延層和襯底材料之間應(yīng)具有良好的化學(xué)相容性,襯底與外延層不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),不發(fā)生大量的溶解現(xiàn)象。以避免在生長(zhǎng)過程中導(dǎo)致外延層的化學(xué)組成和結(jié)構(gòu)發(fā)生變化。

電子特性:外延層的材料應(yīng)具有所需的電子特性,如能帶結(jié)構(gòu)、載流子遷移率和摻雜效率,以滿足特定器件的性能要求。

機(jī)械強(qiáng)度:襯底應(yīng)具有足夠的機(jī)械強(qiáng)度來支撐外延層的生長(zhǎng),并在后續(xù)的器件加工過程中保持穩(wěn)定。

熱導(dǎo)性:襯底材料的熱導(dǎo)性也是一個(gè)重要因素,尤其是在需要高效散熱的應(yīng)用中。良好的熱導(dǎo)性能有助于器件在高功率操作下的穩(wěn)定性和壽命。

異質(zhì)外延技術(shù)在提高器件性能、降低成本和實(shí)現(xiàn)新型器件方面具有巨大的潛力,因此在選擇外延層和襯底材料時(shí),需要綜合考慮上述要求,以實(shí)現(xiàn)最佳的器件性能和制造效率。



審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:異質(zhì)外延對(duì)襯底有什么要求?

文章出處:【微信號(hào):bdtdsj,微信公眾號(hào):中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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