英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，將用于14A制程
芯片巨頭英特爾于18日宣布，在其俄勒岡州研究機(jī)構(gòu)中成功組裝了全球首臺(tái)用于商業(yè)領(lǐng)域的高數(shù)值孔徑極紫外光（High-NA EUV）光刻機(jī)。
半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）于去年底在社交媒體上發(fā)布照片，揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝，這無疑展示了其在行業(yè)中的領(lǐng)先地位。
英特爾正在實(shí)施一項(xiàng)為期四年的五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)發(fā)展計(jì)劃，預(yù)計(jì)最尖端的工藝將達(dá)到Intel 18A級(jí)別。在此基礎(chǔ)上，英特爾計(jì)劃在Intel 14A制程中正式引入高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)。據(jù)分析師預(yù)測，這套設(shè)備的售價(jià)可能高達(dá)2.5億歐元。
英特爾近期表示，將在2027年前推出14A和Intel 14A-E兩個(gè)制程。
英特爾強(qiáng)調(diào)，目前正在對高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備TWINSCAN EXE:5000進(jìn)行校準(zhǔn)，該設(shè)備與公司晶圓廠內(nèi)的其他技術(shù)相結(jié)合，有望實(shí)現(xiàn)比現(xiàn)有EUV設(shè)備更小的特征尺寸，縮小至原來的1.7倍。
此外，英特爾還計(jì)劃購買下一代TWINSCAN EXE:5200B系統(tǒng)。
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