“光刻33%法則”在業(yè)界被稱為“四章法則”，它是在1980年代中期由荷蘭ASML公司針對當(dāng)時主流的步進式光刻機所提出的一種理論。

“光刻33%法則”在業(yè)界被稱為“四章法則”，它是在1980年代中期由荷蘭ASML公司針對當(dāng)時主流的步進式光刻機所提出的一種理論。 “光刻33%法則”是指在光刻機的操作過程中，繪制的圖案的尺寸在實際制造中可能會有一定的誤差。根據(jù)法則，光刻機套刻精度主要受到三個因素的影響，分別是光刻膠的性能，掩膜光刻圖形的偏差，以及光刻機本身的誤差。這三個因素對套刻精度的貢獻比例分別為33%。

光刻膠的性能：光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度，光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實際圖案尺寸與設(shè)計尺寸之間的偏差。

掩膜光刻圖形的偏差：掩膜上的圖形與設(shè)計圖形之間的偏差會影響套刻位置的準(zhǔn)確性，可能導(dǎo)致圖形位置的偏移和形狀的變化。

光刻機本身的誤差：光刻機的穩(wěn)定性和精度，包括對準(zhǔn)系統(tǒng)和光學(xué)系統(tǒng)的誤差，也會影響套刻精度。

具體來說，光刻膠的性能決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度，而掩膜光刻圖形的偏差會導(dǎo)致套刻位置的偏移和形狀變化，光刻機本身的誤差則與機器的穩(wěn)定性和精度相關(guān)。這三個因素綜合起來，通過精確控制和優(yōu)化，可以達到較高的套刻精度。為了確保制造的精度符合設(shè)計要求，通常會采取一些校正措施，比如：

調(diào)整光刻膠的厚度，以減少收縮帶來的影響。

使用更高精度的光刻機，以提高整體的套刻精度。

進行后續(xù)的校正和修復(fù)工作，以調(diào)整圖案尺寸至設(shè)計要求。

審核編輯：黃飛