光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。

光刻膠是一種有機(jī)化合物，它受紫外線曝光后在顯影液中的溶解度發(fā)生顯著變化，而未曝光的部分在顯影液中幾乎不溶解。光刻膠在半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于在硅片上形成精細(xì)的圖案。旋轉(zhuǎn)涂膠是一種常用的光刻膠涂覆技術(shù)，它通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)硅片來(lái)實(shí)現(xiàn)光刻膠的均勻分布。

旋轉(zhuǎn)涂膠的步驟通常包括：

首先在硅片中心滴上一定量的光刻膠，硅片開(kāi)始緩慢旋轉(zhuǎn)，以便光刻膠能夠流動(dòng)并覆蓋硅片的表面。隨后硅片旋轉(zhuǎn)速度加快，由于離心力的作用，光刻膠會(huì)向硅片邊緣擴(kuò)散。隨著旋轉(zhuǎn)速度的增加，光刻膠在硅片表面形成一個(gè)均勻的薄膜，當(dāng)達(dá)到所需的膠膜厚度后，硅片逐漸減速至停止。

旋轉(zhuǎn)涂膠技術(shù)的優(yōu)勢(shì)包括：

均勻性：旋轉(zhuǎn)涂膠可以產(chǎn)生非常均勻的膠膜厚度，這對(duì)于保證光刻過(guò)程中圖案的一致性至關(guān)重要。

減少缺陷：通過(guò)控制旋轉(zhuǎn)速度和加速度，可以減少氣泡和顆粒等缺陷的產(chǎn)生。 提高效率：旋轉(zhuǎn)涂膠是一種快速的涂覆方法，可以提高生產(chǎn)效率。

節(jié)省材料：由于膠膜的均勻性和可控性，旋轉(zhuǎn)涂膠可以減少光刻膠的使用量。 適應(yīng)性強(qiáng)：旋轉(zhuǎn)涂膠技術(shù)適用于不同的光刻膠類型和硅片尺寸。 旋轉(zhuǎn)涂膠過(guò)程中，需要精確控制旋轉(zhuǎn)速度、加速度和持續(xù)時(shí)間等參數(shù)，以確保膠膜的質(zhì)量和一致性。此外，涂膠后的軟烘過(guò)程也非常重要，它有助于固化膠膜，減少光刻過(guò)程中的變形。

審核編輯：黃飛