臺(tái)灣半導(dǎo)體制造巨頭臺(tái)積電(TSMC)在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位再次得到強(qiáng)化,據(jù)投資銀行瑞銀集團(tuán)(UBS)最新發(fā)布的報(bào)告顯示,臺(tái)積電正以前所未有的速度推進(jìn)其2納米(nm)芯片技術(shù)的生產(chǎn)準(zhǔn)備,預(yù)計(jì)將在2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),并帶動(dòng)該年度資本支出激增至370億美元。這一舉措不僅彰顯了臺(tái)積電在技術(shù)研發(fā)與產(chǎn)能布局上的強(qiáng)大實(shí)力,也預(yù)示著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局的新一輪變革。
報(bào)告特別指出,由于臺(tái)積電采取了積極措施提前部署2納米芯片技術(shù),其2024年的資本支出或?qū)⒂|及指導(dǎo)值的上限,即320億美元。這一龐大的投資規(guī)模,主要得益于臺(tái)積電對(duì)2納米芯片生產(chǎn)的高度重視與堅(jiān)定承諾。值得注意的是,盡管量產(chǎn)計(jì)劃定于明年,但臺(tái)積電在設(shè)備部署方面已提前完成既定目標(biāo),顯示出公司在技術(shù)革新與產(chǎn)能建設(shè)上的高效執(zhí)行力。
臺(tái)積電2納米技術(shù)的加速推進(jìn),得益于其在技術(shù)研發(fā)上的持續(xù)投入與創(chuàng)新能力。作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造企業(yè),臺(tái)積電始終站在技術(shù)前沿,不斷推動(dòng)制程技術(shù)的升級(jí)與突破。此次2納米技術(shù)的引入,將首次采用Gate-all-around FETs(GAAFET)晶體管技術(shù),這一創(chuàng)新將極大提升芯片的性能和能效比,為未來(lái)的電子產(chǎn)品帶來(lái)更高的性能表現(xiàn)和更低的能耗水平。
蘋(píng)果公司對(duì)下一代iPhone及其3納米產(chǎn)品的強(qiáng)勁需求,成為推動(dòng)臺(tái)積電業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)的重要?jiǎng)恿ΑH疸y預(yù)計(jì),這一市場(chǎng)需求將在今年第三季度為臺(tái)積電帶來(lái)13%的年收入增長(zhǎng)。同時(shí),隨著2納米技術(shù)的逐步成熟與量產(chǎn),臺(tái)積電有望吸引更多行業(yè)巨頭的關(guān)注與合作,進(jìn)一步鞏固其在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。
此外,臺(tái)積電還計(jì)劃將2納米芯片的生產(chǎn)擴(kuò)大到臺(tái)灣各地的工廠,包括新竹科技園、高雄科技園等地。這一布局不僅有助于提升公司的整體產(chǎn)能與供應(yīng)鏈穩(wěn)定性,也將促進(jìn)臺(tái)灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的協(xié)同發(fā)展與創(chuàng)新能力的提升。
綜上所述,臺(tái)積電2納米工藝生產(chǎn)設(shè)備的提前部署完成,標(biāo)志著公司在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的又一次重大突破。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步與市場(chǎng)的持續(xù)擴(kuò)大,我們有理由相信,臺(tái)積電將繼續(xù)保持其在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的領(lǐng)先地位,并為整個(gè)行業(yè)的健康發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
459文章
52294瀏覽量
437662 -
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
335文章
28696瀏覽量
234089 -
臺(tái)積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5742瀏覽量
169133
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
全球芯片產(chǎn)業(yè)進(jìn)入2納米競(jìng)爭(zhēng)階段:臺(tái)積電率先實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)!

英特爾18A與臺(tái)積電N2工藝各有千秋
臺(tái)積電亞利桑那工廠啟動(dòng)蘋(píng)果芯片生產(chǎn)
臺(tái)積電4nm芯片量產(chǎn)
臺(tái)積電美國(guó)工廠生產(chǎn)4納米芯片
臺(tái)積電設(shè)立2nm試產(chǎn)線
臺(tái)積電2納米制程啟動(dòng)試產(chǎn),預(yù)計(jì)2026年底月產(chǎn)能大增
臺(tái)積電2025年起調(diào)整工藝定價(jià)策略
高通明年驍龍8 Elite 2芯片全數(shù)交由臺(tái)積電代工
臺(tái)積電2nm工藝將量產(chǎn),蘋(píng)果iPhone成首批受益者
臺(tái)積電2納米制程技術(shù)細(xì)節(jié)公布:性能功耗雙提升
臺(tái)積電2納米制程技術(shù)細(xì)節(jié)公布
臺(tái)積電分享 2nm 工藝深入細(xì)節(jié):功耗降低 35% 或性能提升15%!

評(píng)論