一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
封裝
+關注
關注
127文章
7992瀏覽量
143404
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻膠成為半導體產業的關鍵材料
對光的敏感度。在半導體制造過程中，光刻膠通過光化學反應，將掩膜版上的圖案精確地轉移到硅片表面。 光刻工藝是半導體制造的核心步驟之一。在硅片表面涂上光
一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望
光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環，而光刻膠，又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展，對微小、精密的結構的需求日益增強，光刻膠
掩膜版與光刻膠的功能和作用
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側重，但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？
控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中，微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。 第一次
導致光刻膠變色的原因有哪些？
存儲時間 正膠和圖形反轉膠在存儲數月后會變暗，而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力，對紫外靈敏度沒有任何影響
光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性，必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據工藝要求
光刻膠的硬烘烤技術
根據光刻膠的應用工藝，我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結
光刻膠后烘技術
一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單，本文就以下一些應用場景下介紹后烘的過程和作用。 化學放大正膠 機理 當使用“正?！闭?/div>
![的頭像]()
發表于 07-09 16:08
?1621次閱讀
光刻膠的保存和老化失效
通常要考慮光刻膠是否過期失效了。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感，在光照或高溫條件下其性能會發生變化。
一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠
光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
關于光刻膠的關鍵參數介紹
與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢撔?b class='flag-5'>光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠
- 設計技術
- 可編程邏輯
- 電源/新能源
- MEMS/傳感技術
- 測量儀表
- 嵌入式技術
- 制造/封裝
- 模擬技術
- RF/無線
- 接口/總線/驅動
- 處理器/DSP
- EDA/IC設計
- 存儲技術
- 光電顯示
- EMC/EMI設計
- 連接器
- 行業應用
- LEDs
- 汽車電子
- 音視頻及家電
- 通信網絡
- 醫療電子
- 人工智能
- 虛擬現實
- 可穿戴設備
- 機器人
- 安全設備/系統
- 軍用/航空電子
- 移動通信
- 工業控制
- 便攜設備
- 觸控感測
- 物聯網
- 智能電網
- 區塊鏈
- 新科技
- 聯系我們
- 廣告合作
- 王婉珠：wangwanzhu@elecfans.com
- 內容合作
- 黃晶晶：huangjingjing@elecfans.com
- 內容合作（海外）
- 張迎輝：mikezhang@elecfans.com
- 供應鏈服務 PCB/IC/PCBA
- 江良華：lanhu@huaqiu.com
- 投資合作
- 曾海銀：zenghaiyin@huaqiu.com
- 社區合作
- 劉勇：liuyong@huaqiu.com
-
關注我們的微信
-
下載發燒友APP
-
電子發燒友觀察
版權所有 ? 湖南華秋數字科技有限公司
長沙市望城經濟技術開發區航空路6號手機智能終端產業園2號廠房3層（0731-88081133）
電子發燒友 （電路圖） 湘公網安備43011202000918
工商網監
湘ICP備2023018690號-1
評論