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      中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC 2018整體介紹

      求是緣半導(dǎo)體 ? 2017-12-14 16:26 ? 次閱讀
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      中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC2018中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC），SEMI、IMEC、IEEE和中國高科技專家組聯(lián)合舉辦的亞洲最大的世界級半導(dǎo)體技術(shù)研討會。自2000年舉行以來，至今已經(jīng)成功舉辦了17屆，會議主要涉及manufacturing processes, devices design, integration, materials, equipment等內(nèi)容，也包括半導(dǎo)體行業(yè)中熱門話題，如memory technology, 3D integration, MEMS等。CSTIC 2018，將于2018年3月11-12號，在上海國際會議中心舉行，與SEMICON CHINA 2018展會同期舉辦。

      Distinguished Conference Keynote Speakers：

      部分特邀演講嘉賓：

      Conference Programs：

      Symposium I:

      Device Engineering and Memory Technology

      Symposium II:

      Lithography and Patterning

      Symposium III:

      Dry & Wet Etch and Cleaning

      Symposium IV:

      Thin Film, Plating and Process Integration

      Symposium V:

      CMP and Post-Polish Cleaning

      Symposium VI:

      Metrology, Reliability and Testing

      Symposium VII:

      Packaging and Assembly

      Symposium VIII:

      MEMS, Sensors and Emerging Semiconductor Technologies

      Symposium IX:

      Design and Automation of Circuits and Systems
      大會組織：

      主辦：

      合辦：

      出版機構(gòu)：

      大會時間及地點：

      March 11-12, 2018Shanghai International Convention Center上海國際會議中心 中國上海浦東濱江大道2727號No.2727 Riverside Avenue Pudong, Shanghai 200120, China

      參會注冊及聯(lián)系方式：

      Kelly Zhang, SEMI China

      Tel: 86.21.6027.8556Fax: 86.21.6027.8511Email: kzhang@semi.org

      參會費用：

      2500元人民幣/人


      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴

      原文標(biāo)題：中國半導(dǎo)體技術(shù)大會CSTIC 2018|求是緣半導(dǎo)體聯(lián)盟推薦

      文章出處：【微信號：gh_0e7bd440f48b，微信公眾號：求是緣半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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