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從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

傳感器技術(shù) ? 2018-02-01 11:48 ? 次閱讀

通過簡單地降低電壓或頻率來實現(xiàn)低功耗不可取——試問有誰會去買性能打過折的產(chǎn)品呢?那么,低功耗CPU到底又是怎么實現(xiàn)的?

隨著智能手機等移動應(yīng)用的興起,目前的處理器設(shè)計不僅要提供高性能,還必須要符合另一個重要指標,那就是低功耗。通過簡單地降低電壓或頻率來實現(xiàn)低功耗不可取——試問有誰會去買性能打過折的產(chǎn)品呢?那么,低功耗CPU到底又是怎么實現(xiàn)的?EDN小編今天來和大家理一理,簡單來說,我們可以從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝這兩個方面來看。

低功耗設(shè)計的基礎(chǔ):處理器功耗分析的經(jīng)典公式

要想實現(xiàn)低功耗,就必須了解電路中功耗的來源[1]。對于CMOS電路功耗主要分為三部分,分別是:電路在對負載電容充電放電引起的跳變功耗;由CMOS晶體管在跳變過程中,短暫的電源和地導通帶來的短路功耗;以及由漏電流引起的漏電功耗。其中跳變功耗和短路功耗為動態(tài)功耗,漏電功耗為靜態(tài)功耗。以下是SoC(即CPU)功耗分析的經(jīng)典公式:

其中:?是系統(tǒng)的頻率;A是跳變因子,即整個電路的平均反轉(zhuǎn)比例;C是門電路的總電容;V是供電電壓;τ是電平信號從開始變化到穩(wěn)定的時間。

在深亞微米工藝下,電路的功耗主要是跳變功耗,短路功耗和漏電功耗可以忽略不計。但隨著工藝發(fā)展到納米級,漏電功耗在整個功耗中的比例將顯著提高(如下圖所示)。


圖:不同工藝下動態(tài)功耗和靜態(tài)功耗對比圖

低功耗的微架構(gòu)設(shè)計

基于上面這個功耗分析的公式,我們要設(shè)法降低的主要就是其中的第一項和第三項功耗,即跳變功耗和漏電功耗。我們首先來看微架構(gòu)設(shè)計,基本思路如下圖:

從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

因此,我們可以衍生出很多的低功耗微架構(gòu)設(shè)計方法。里面比較重要的一些如下:

?時鐘門控:給每個模塊的時鐘加上門控,不需要時將它關(guān)閉,從而盡可能降低功耗。

?電源門控:原理同上,盡可能降低動態(tài)功耗和漏電功耗。

從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

?降低電壓:電壓受頻率影響,可以通過降低頻率來降低所需電壓。當頻率降低,電路開關(guān)速度降低,就能有更多時間去進行充電,因此所需充電電壓就能降低(電壓越大充電速度越快)。同時,可通過流水線分割組合邏輯。若同時保持頻率不變,電路能有更多時間去進行充電,從而降低所需充電電壓。

從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

?系統(tǒng)設(shè)計時考慮優(yōu)化,如減少電路開關(guān),用RAM代替寄存器文件,減少存儲器讀寫。

除了上述這些方法,高效的低功耗技術(shù)還有許多,比如襯底反偏(加反向電壓降低襯底漏電),多閾值單元(Multi-Vth cell)等等設(shè)計方法。下圖是一些比較熱門的RTL級低功耗技術(shù)。

從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

此外,對于CPU而言,PPA(性能、功耗和面積)也總是在互相權(quán)衡的。通過增加CPU內(nèi)核數(shù)和采用ARM的big.LITTLE架構(gòu)等,也是近年來常用的低功耗設(shè)計方法。

從微架構(gòu)設(shè)計和制造工藝低功耗CPU的實現(xiàn)

先進的低功耗制造工藝

芯片的制造工藝在不斷向前發(fā)展。一個常識是,工藝越先進(納米數(shù)越低),功耗和性能都會提升。但是其原因又是為何?此外,F(xiàn)inFET工藝又是什么,為什么會更進一步實現(xiàn)二者的提升?這要從晶體管說起了:

這里,我們盡量把事情說簡單。上面這副示意圖中就是一個典型的半導體晶體管。其中兩個綠色的部分(源極Source和漏極Drain)分別是晶體管的兩級,類似電池的兩級。紅色的部分就是用來控制這兩個電極的通斷的,而通斷分別對應(yīng)數(shù)字化時間的1和0。所謂數(shù)字化世界其實也就是非常非常多的晶體管的通斷變化組合出來的。紅色柵極(Gate)的寬度就是我們通常所說的溝槽寬度或者線寬——我們通常說的多少多少nm就是指的這個寬度。

這個柵極的寬窄決定了性能和功耗。晶體管的開關(guān)速度(每次0/1變化)對應(yīng)處理器的運算速度。紅色的柵極越寬,兩個綠色電極就越遠,導致它們直接連通一次的時間就越長。所以柵極越小,晶體管一次狀態(tài)變化所需的時間就越短,單位時間的工作次數(shù)就越多。這樣一堆晶體管單位時間可做的運算自然就更多,所以性能更好。

再來看功耗。柵極是通過加電壓幫助兩個綠色電極通電的。而柵極越寬,就需要更高的電壓才能導通兩極;柵極越窄,導通就更容易,所需的電壓也就越低。功耗的大小與電壓的平方成正比,所以導通電壓的下降是新工藝能夠降低功耗的主要因素。還有一個因素,即便是電壓相同,通過導體的面積和長度越小,電流也會越小。更小的柵極等于是縮小的導體,因此也會減少功耗。

那么,F(xiàn)inFET又是什么?

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原文標題:低功耗CPU是怎樣煉成的?

文章出處:【微信號:WW_CGQJS,微信公眾號:傳感器技術(shù)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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