1?設備型號

3臺和FIB聯用為雙束聚焦離子束顯微鏡（FIB-SEM），能夠為客戶提供專業的材料分析服務。

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原理

場發射掃描電鏡是一種采用尖端肖特基熱場發射技術的先進顯微鏡。與傳統的掃描電鏡相比，場發射技術提供了更強的電子束能量，從而使得二次電子圖像更為清晰，理論上放大倍數可超過十萬倍。此外，場發射掃描電鏡在進行電子背散射衍射（EBSD）測試時也顯示出顯著的優勢。

掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束，以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上，利用入射電子和試樣表面物質相互作用所產生的二次電子和背散射電子成像，獲得試樣表面微觀組織結構和形貌信息。配置波譜儀和能譜儀，利用所產生的X射線對試樣進行定性和定量化學成分分析。

該儀器具有超高分辨率，能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理，在鍍膜或不鍍膜的基礎上，低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品如組織、細胞、微生物以及生物大分子等，獲得忠實原貌的立體感極強的樣品表面超微形貌結構信息。具有高性能x射線能譜儀，能同時進行樣品表層的微區點線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學組分綜合分析能力。

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應用領域

適用于納米材料精細形貌的觀察，可獲取高質量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析。

（1）可向樣品室充入多種氣體，在低真空下仍能獲得優于2nm的高分辨圖像；

（2）可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀察；

（3）可在樣品室內對樣品做加溫、低溫處理，對化學反應過程進行實時觀測。

該設備適用于物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質礦物、生物、醫學等領域的微觀研究和分析。

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案例分析

高分辨率的場發射電鏡觀察支架鍍層截面形貌，鍍層晶格形貌、內部缺陷一覽無遺。場發射電鏡下觀察支架鍍層截面形貌，鍍層界限明顯、結構及晶格形貌清晰，尺寸測量準確。此款支架在常規鍍鎳層上方鍍銅，普通制樣方法極其容易忽略此層結構，輕則造成判斷失誤，重則造成責任糾紛，經濟損失！