如何測量晶圓表面金屬離子的濃度
???本文主要介紹如何測量晶圓表面金屬離子的濃度。?
金屬離子濃度為什么要嚴格控制？????
金屬離子在電場作用下容易發生遷移。如Li?，Na?、K?等可遷移到柵氧化層，導致閾值電壓下降。
常用的檢測晶圓表面金屬離子的儀器？
全反射 X 射線熒光光譜儀，英文簡稱TXRF。
X射線熒光是什么？
當X射線照射樣品時，樣品原子吸收X射線的能量，使原子的內層電子被激發到更高能級，原有位置形成空穴。而外層電子會躍遷至內層空穴，在躍遷過程中，多余的能量以特定波長的X射線形式釋放。通過檢測這些X射線，可以確定元素的種類和含量。
什么叫全反射？
如上圖，TXRF的X 射線會以極低的入射角照射樣品表面，X 射線的穿透深度僅有幾個nm，即全部反射，大大減少了背景信號干擾，因此可檢測低至 ppb級別的痕量金屬污染。? TXRF的優勢？ 1、靈敏度高 2、非破壞性 3、快速檢測，一般只要幾分鐘 4，全晶圓分析 5、可以分析多種襯底，例如 Si、SiC、GaAs、InP、藍寶石、玻璃等
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原文標題：如何測量晶圓表面金屬離子的濃度？
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