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碳化硅SiC的光學(xué)優(yōu)勢及應(yīng)用

向欣電子 ? 2025-02-22 14:40 ? 次閱讀

碳化硅(SiC)在大口徑光學(xué)反射鏡上的應(yīng)用,主要得益于其高比剛度、優(yōu)異熱穩(wěn)定性和寬光譜響應(yīng)等特性,成為空間觀測、深空探測等領(lǐng)域的核心材料。以下是關(guān)鍵應(yīng)用進展與技術(shù)突破:

一、材料優(yōu)勢

1. 輕量化與高剛度:碳化硅的比剛度是傳統(tǒng)玻璃的4倍,相同口徑下重量僅為四分之一,適合航天器減重需求。

2. 熱穩(wěn)定性:導(dǎo)熱系數(shù)比玻璃高兩個數(shù)量級,溫控難度大幅降低,適應(yīng)太空極端溫差環(huán)境。

3. 光學(xué)性能:表面鍍膜后可見光至紅外波段反射率超95%,滿足高分辨率成像需求。

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傳統(tǒng)的大口徑反射鏡多用微晶或者石英玻璃,這里把碳化硅與微晶玻璃及石英玻璃的相關(guān)特性進行了對比,通過數(shù)據(jù)可以更直觀地感受到差異,如下所示:

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二、制造技術(shù)突破

1. 鏡坯制備:采用類似“做豆腐”的膠態(tài)成型工藝,將微米級碳化硅粉末制成鏡坯,支持復(fù)雜輕量化結(jié)構(gòu),三種制備工藝路線如下圖。中國長春光機所通過5次試驗攻克4米鏡坯燒結(jié)難題,成功制備全球最大單體碳化硅鏡坯(4.03米)。

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2. 精密加工:鏡坯制備完成之后,進入光學(xué)精密加工(工藝路線如下圖)。磁流變拋光將4米反射鏡面形精度提升至15.2納米(相當于北京五環(huán)地面平整度誤差<1毫米)。3D打印技術(shù)2024年國內(nèi)實現(xiàn)0.6米碳化硅反射鏡3D打印,解決傳統(tǒng)工藝加工誤差大、成本高的問題。

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3. 鍍膜技術(shù):首創(chuàng)長方形磁控濺射鍍膜裝備,膜厚不均勻性控制在5%以內(nèi),確保高反射率。

三、應(yīng)用實例

1.4米口徑反射鏡:全球最大碳化硅單體反射鏡,可清晰觀測地面汽車天窗細節(jié),應(yīng)用于國家地基大型光電系統(tǒng)。

2.中國“巡天”空間望遠鏡:主鏡直徑2米,采用 CVD-SiC蜂窩結(jié)構(gòu),面形精度<15 nm RMS,重量僅200 kg。

3.歐洲極大望遠鏡(E-ELT):鏡面拼接技術(shù)中,CVD-SiC用于校正鏡單元(熱膨脹系數(shù)匹配主鏡微晶玻璃)。

四、挑戰(zhàn)與趨勢

1.工藝復(fù)雜度:燒結(jié)周期長(單次需5-6個月)、拋光耗時(4米鏡需64個月)。

2.未來方向:結(jié)合3D打印實現(xiàn)更大口徑(如米級)反射鏡快速制造,推動商業(yè)化應(yīng)用。

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