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Cadence擴大與三星晶圓代工廠的合作

Cadence楷登 ? 來源:Cadence楷登 ? 2025-07-10 16:44 ? 次閱讀
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深化合作范圍,簽訂全新多年期 IP 協(xié)議,并將基于最新 SF2P 工藝節(jié)點聯(lián)合開發(fā) AI 驅(qū)動的先進設計流程

楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布擴大與三星晶圓代工廠的合作,包括簽署一項新的多年期 IP 協(xié)議,在三星晶圓代工廠的 SF4X、SF5A 和 SF2P 先進節(jié)點中擴展 Cadence存儲器與接口 IP 解決方案的應用范圍。為深化持續(xù)的技術合作,雙方將利用 Cadence AI 驅(qū)動的設計解決方案,結合三星先進的 SF4X、SF4U 和 SF2P 工藝節(jié)點,為 AI 數(shù)據(jù)中心、汽車(包括高級駕駛輔助系統(tǒng),ADAS)以及新一代 RF 連接應用提供高性能、低功耗的解決方案。

Cadence AI 驅(qū)動的設計解決方案以及全面的 IP 與硅解決方案組合,可顯著提升設計人員的生產(chǎn)力,并加快基于三星晶圓代工廠先進工藝的尖端系統(tǒng)級芯片、小芯片(chiplet)及 3D-IC 產(chǎn)品上市時間(TTM)。

“我們支持三星晶圓代工廠工藝節(jié)點上的各種 IP、子系統(tǒng)和小芯片(chiplet),最新簽訂的多年期 IP 協(xié)議進一步鞏固了雙方持續(xù)的合作關系,”Cadence 高級副總裁兼芯片解決方案事業(yè)部總經(jīng)理 Boyd Phelps表示,“通過將 Cadence AI 驅(qū)動的設計與硅解決方案同三星的先進工藝相結合,我們正在為雙方的共同客戶提供打造創(chuàng)新產(chǎn)品所需的前沿技術,助力其產(chǎn)品更快上市。”

三星電子副總裁兼代工設計技術團隊負責人 Hyung-Ock Kim補充道:“Cadence 從 RTL 到 GDS 的全套數(shù)字工具現(xiàn)已通過三星最新的 SF2P 工藝節(jié)點認證,支持 Hyper Cell 和 LLE 2.0 等先進技術。Cadence 還將與三星密切合作,利用 GPU 加速來支持模擬遷移、提升電源完整性,并改進 3D-IC 的熱分析和翹曲分析。此外,Cadence 與三星晶圓代工廠簽署的多年期協(xié)議將進一步擴展存儲器和接口 IP 解決方案,鞏固我們雙方的合作伙伴關系。”

擴充 IP 協(xié)議

Cadence 與三星晶圓代工廠新簽署了一項多年期協(xié)議,旨在為人工智能、高性能計算(HPC)和汽車應用提供先進的存儲器與接口 IP 解決方案。擴展后的 SF4X IP 產(chǎn)品組合包含 LPDDR6/5x-14.4G、GDDR7-36G、DDR5-9600、PCI Express(PCIe)6.0/5.0/CXL 3.2、Universal Chiplet Interconnect Express(UCIe)-SP 32G 以及 10G 多協(xié)議 PHY(支持 USB3.x、DP-TX、PCIe 3.0 和 SGMII),配套的控制器 IP 可提供完整的子系統(tǒng)硅解決方案。專為汽車應用定制的 LPDDR5X-8533 PHY IP進一步完善了 SF5A IP 平臺解決方案,而新增的 32G PCIe 5.0 PHY 補充了現(xiàn)有的 SF2P 產(chǎn)品,旨在滿足領先 AI/HPC 客戶的需求。

數(shù)字全流程認證與先進數(shù)字技術開發(fā)

基于廣泛的設計與技術協(xié)同優(yōu)化(DTCO)項目,Cadence 數(shù)字全流程已通過最新的三星 SF2P 工藝節(jié)點認證,包括三星 Hyper Cell 方法學。此外,Cadence 還實現(xiàn)了對三星Local Layout Effect(LLE)時序精度的支持。雙方還就下一代工藝節(jié)點的 DTCO 項目展開合作。

Cadence PegasusVerification System 已通過三星 SF2P 及其他三星節(jié)點的認證。Cadence 物理驗證流程經(jīng)過優(yōu)化,依靠大規(guī)模可擴展性幫助雙方的共同客戶實現(xiàn)簽核精度與運行時間目標,從而加速產(chǎn)品上市。

模擬設計遷移

Cadence 與三星晶圓代工廠成功實現(xiàn)了基于模擬單元的 4 納米 IP 向先進 2 納米工藝節(jié)點的自動化遷移,在保持功能與設計意圖的同時實現(xiàn)更快的周轉(zhuǎn)時間。此次遷移凸顯了技術擴展與 IP 復用在節(jié)省時間與開發(fā)成本方面的重要性,并為未來跨不同工藝節(jié)點遷移模擬單元及其他 IP 奠定了基礎。

射頻芯片/封裝協(xié)同設計參考流程合作

Cadence 與三星晶圓代工廠還基于三星 14 納米 FinFET 工藝,成功展示了面向下一代毫米波應用的前端模塊(FEM) /天線封裝(AiP)協(xié)同設計完整流程。從初始系統(tǒng)級預算規(guī)劃,到 RFIC/封裝協(xié)同設計、分析及版圖后驗證在內(nèi)的芯片/模塊開發(fā)各個階段的設計數(shù)據(jù)管理流程得到簡化,加快了設計周轉(zhuǎn)時間。

3D-IC 電源完整性

Cadence與三星合作開發(fā)了覆蓋全流程的3D-IC電源完整性分析方法,涵蓋從早期探索到最終簽核的完整流程,采用了先進的Cadence EDA工具,包括VoltusInsightAI、InnovusImplementation System以及Integrity3D-IC Platform。針對采用三星 SF2 工藝節(jié)點的高速CPU芯片,Voltus InsightAI實現(xiàn)了80%-90%的 IR 壓降違例修復,同時對時序和功耗幾乎沒有影響,充分展示了其平衡電源完整性與性能需求的能力。

關于 Cadence

Cadence 是 AI 和數(shù)字孿生領域的市場領導者,率先使用計算軟件加速從硅片到系統(tǒng)的工程設計創(chuàng)新。我們的設計解決方案基于Cadence 的 Intelligent System Design戰(zhàn)略,可幫助全球領先的半導體和系統(tǒng)公司構建下一代產(chǎn)品(從芯片到全機電系統(tǒng)),服務超大規(guī)模計算、移動通信、汽車、航空航天、工業(yè)、生命科學和機器人等領域。2024 年,Cadence 榮登《華爾街日報》評選的“全球最佳管理成效公司 100 強”榜單。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:Cadence攜手三星晶圓代工廠加速面向 AI 數(shù)據(jù)中心、汽車及互聯(lián)應用的系統(tǒng)級芯片、3D-IC 與小芯片(Chiplet)設計

文章出處:【微信號:gh_fca7f1c2678a,微信公眾號:Cadence楷登】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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