制造折射和衍射微光學元件的封閉式設備Quantum X被評為LASER World of Photonics展會最具創新性產品。

據報道，于2019年6月24日至27日舉辦的慕尼黑國際應用激光、光電技術貿易博覽會（LASER-World of Photonics）上，Nanoscribe公司（總部位于德國埃根斯泰因-列奧波德港）推出了基于增材制造的微透鏡陣列制造設備Quantum X。據Nanoscribe介紹，Quantum X是納米級和微米級高分辨率增材制造系統，Nanoscribe產品系列又添一員“大將”，專為高精度微光學無掩模光刻而設計。

在LASER World of Photonics展會上，Nanoscribe的Quantum X無掩模光刻系統在眾多創新型產品中脫穎而出，榮獲創新獎（Innovation Award）。該獎項由貿易博覽會和英國專業出版商Europa Science共同贊助。

Nanoscribe稱，Quantum X是世界上首套基于雙光子灰度光刻技術（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。

該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。

多層衍射光學元件（diffractive optical element，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。

Quantum X的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。

該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的Quantum X進行直接制造。

在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，Quantum X在每個掃描區域內可產生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度。離散和精確的步驟，以及本質上為準連續的形貌，可以在一個步驟中完成打印，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。

Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底，可用于最大尺寸為6英寸的晶圓。Nanoscribe展示了其公司易于操作的***，允許高縱橫比，支持高結構，無需掩模、旋涂和預烘烤或后烘烤。