日韓事件持續(xù)發(fā)酵，其中對向韓國出口幾種化學材料的監(jiān)管被各大媒體報道。韓國三星電子（SAMSUNG）和SK海力士受影響程度被嚴重放大，儼然被看成是下一個“華為事件”。因為禁運材料主要是用于芯片和智能手機生產(chǎn)。

我們知道的是，自7月1日開始，日本加強了對向韓國出口材料的監(jiān)管，限制主要包括氟化聚酰亞胺，用于電視和智能手機的有機發(fā)光二極管（OLED）屏幕，以及用于制造半導體的光刻膠和氟化氫。

根據(jù)韓國國際貿(mào)易協(xié)會的數(shù)據(jù)，韓國進口的抗蝕劑占91.9％，蝕刻氣體占43.9％，日本的聚酰亞胺含量為93.7％，這意味著這些貿(mào)易限制可能會迫使韓國科技制造公司對其產(chǎn)生重大轉(zhuǎn)變。例如供應鏈端生產(chǎn)運行的影響。

圖1-資料來源：韓國國際貿(mào)易協(xié)會

如上（圖1）數(shù)據(jù)顯示，2019年1月~5月韓國從日本購買了10352萬美元的光刻膠，4400萬美元的蝕刻氣體和1214萬美元的氟化聚酰亞胺。

當封禁的消息公布后，韓國半導體市場出現(xiàn)微小震蕩。其中代表性科技企業(yè)如三星電子，LG電子等股市K線略有下滑，但后續(xù)又出現(xiàn)反彈跡象。

還有人猜測被限制的光刻膠材料對韓國三星電子和SK海力士的DRAM和NAND芯片生產(chǎn)產(chǎn)生影響，甚至影響到用于制造智能手機和電視的顯示器市場。那么究竟真正的影響情況是如何呢？

光刻膠，對存儲芯片生產(chǎn)沒有影響

光致抗蝕劑是光敏聚合物，其涂覆在硅晶片上并通過光掩模用光刻系統(tǒng)（光源）圖案化以形成構(gòu)成集成電路的特定結(jié)構(gòu)。

圖2：不同類型的光刻技術(shù)在不同波長下工作。

如圖2所示，EUV使用極短波長為13.5nm的光源。這一點至關(guān)重要，因為關(guān)于禁運的新聞文章忽略了日本對韓國光刻膠的禁運只涉及EUV。然而，ArF光刻技術(shù)是三星，SK海力士（以及所有其他存儲器制造商）大量使用的方式，并未被禁運所覆蓋。

根據(jù)METI條例的規(guī)定事項，禁運光刻膠定義如下：

（1）對于使用小于193nm且大于15nm的光波長而優(yōu)化的正抗蝕劑

（2）抗蝕劑優(yōu)化使用小于15nm和超過1nm的光波長

參照圖2可知，EUV是小于193nm（ArF浸沒）和小于15nm且大于1nm的。因此，禁運抗蝕劑用于EUV光刻，而非主流193浸沒DUV光刻。

圖3說明了IC器件發(fā)展路線圖和設備使用情況。NAND不會使用EUV，因為它的尺寸太大并且不具備成本效益。而DRAM是另一回事，三星和SK海力士正在努力探索EUV的使用。

圖3

然而，涉及光刻膠的EUV將影響三星的代工業(yè)務。三星曾指出，“它已經(jīng)完成了7nm工藝技術(shù)的開發(fā)，并已開始生產(chǎn)其革命性工藝晶圓節(jié)點，投產(chǎn)7nm LPP（低功率Plus）工藝，并將首次應用到EUV光刻技術(shù)。”

受此禁運影響的的公司包括日本東京Ohka Kogyo，信越化學和JSR。

蝕刻氣體，對存儲芯片生產(chǎn)影響最小

氟化氫主要用作清潔氣體，用于去除膜沉積后粘附在化學氣相沉積爐內(nèi)部的不必要的化學物質(zhì)。如上所述，它還用于等離子體蝕刻設備中，以在光刻膠圖案化之后蝕刻細槽或孔。

據(jù)悉，日本Stella Chemifa和Morita Chemical為三星和SK海力士提供高純度的氟化氫。受此次禁運影響，韓國科技公司有可能改變從日本進口氟化氫的渠道。例如，Stella Chemifa在***芯片代工公司TSMC（TSM）附近設有工廠。

韓國氟化氫供應商包括Soulbrain和ENF Technology，后者擁有與Morita Chemical合資的Fem Technology 46％股權(quán)。

另外，三星和SK海力士也在考慮從中國進口氟化氫產(chǎn)品，以取代日本供應商，特別是純度。如圖1所示，中國向韓國供應了46.3％的蝕刻氣體。

氟化聚酰亞胺，對三星Galaxy Fold的影響最小

透明聚酰亞胺（PI）膜是可折疊OLED的最流行的覆蓋材料。聚酰亞胺薄膜是柔軟的，因此在頂部和底部施加硬涂層以補償。這種結(jié)構(gòu)取代了傳統(tǒng)的不可折疊LCD和OLED智能手機的鋼化玻璃蓋（如康寧大猩猩玻璃）。

同時，三星電子選擇了日本住友化學作為可折疊智能手機的透明聚酰亞胺供應商。韓國Sumwoomo 100％子公司Dongwoo Fine-Chem將硬涂層應用于住友的PI膜。最初爭奪贏得三星可折疊手機業(yè)務的是韓國Kolon Industries。

因此，來自日本的任何貿(mào)易限制對三星的影響微乎其微，原因有三：三星在科隆有一個替代來源，該公司一直在競爭這項業(yè)務；三星延遲推出Fold智能手機將使公司有時間評估其他來源；PI的替代方案正在評估中。這包括康寧（GLW）和朝日玻璃。

總結(jié)：日本對韓國的材料禁運對內(nèi)存芯片和顯示器的生產(chǎn)幾乎沒有影響。筆者認為日本對韓國的限制可能適得其反，韓國有可能會提高向日本銷售存儲芯片的價格或關(guān)稅來啟動對策，從而使全球內(nèi)存市占為第三的美光以及新生的中國存儲器市場受益。

同時，這場貿(mào)易戰(zhàn)也是對韓國人的一次警告。他們?nèi)跣〉谋就粱湡o法創(chuàng)建一個半導體產(chǎn)業(yè)帝國。設備和材料供應鏈一環(huán)仍是其短板之一。

需要注意一點的是，日韓貿(mào)易爭端開啟之后，內(nèi)存芯片市場NAND價格卻上漲逾10%。此前多家主要內(nèi)存芯片制造商的提振措施都無法改變低迷的全球存儲市場。想想這是一件奇怪的事情。但對全球三大主要制造商三星，SK海力士和美光來說無疑是利好信息。至少價格上來了那么一丟丟！