資料介紹
芯片版圖設計完成后,必須將設計數據轉換成 EB 數據以制造掩模版。為了
提高芯片的規模和集成度,降低成本,芯片越來越采用更小尺寸的工藝來制造,
但更小尺寸的制造工藝同時也必須考慮更多的問題。當前的深亞微米半導體制造
工藝對于芯片設計層次(GDSII layer)到掩模版層次(mask layer)的轉換規則
(EB Processing Rule)日趨復雜。目前幾乎所有的芯片代工廠都會將客戶的
layout 數據轉換成EB 數據。然而GDSII layer 到mask layer 的轉換往往工作量巨
大,EB 規則復雜時不易實現,增加了流片失敗的風險。在應用中,我們發現
Mentor Graphics 公司的Calibre 工具可以很好的解決這些問題,能夠完全依據EB
規則將GDSII layer 形式的設計數據轉換成mask layer 形式的數據。本文將簡要介
紹如何使用Calibre 解決GDSII 層次轉換問題,實現設計數據到EB 數據的自動轉
換。
提高芯片的規模和集成度,降低成本,芯片越來越采用更小尺寸的工藝來制造,
但更小尺寸的制造工藝同時也必須考慮更多的問題。當前的深亞微米半導體制造
工藝對于芯片設計層次(GDSII layer)到掩模版層次(mask layer)的轉換規則
(EB Processing Rule)日趨復雜。目前幾乎所有的芯片代工廠都會將客戶的
layout 數據轉換成EB 數據。然而GDSII layer 到mask layer 的轉換往往工作量巨
大,EB 規則復雜時不易實現,增加了流片失敗的風險。在應用中,我們發現
Mentor Graphics 公司的Calibre 工具可以很好的解決這些問題,能夠完全依據EB
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