簡單梳理芯片制造的基本步驟

從光刻機出來后還要經歷曝光后的烘焙，簡稱后烘。這一步的目的是通過加熱讓光刻膠中的光化學反應充分完成，可以彌補曝光強度不足的問題。

2023-02-16 標簽：芯片芯片制造光刻機 9776 0

***的簡易工作原理圖 掩模版都有哪些種類？

光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實現對光線的遮擋或透過功能，是微電子光刻工...

2023-02-13 標簽：集成電路光刻機 2511 0

國產***能否拯救中國半導體行業？

6年以作者的認知我是認為不太可能達成，但就當他可能吧，6年后我們才能擁有28nm全打通的國產蝕刻設備，與網路上鋪天蓋地的蝕刻我們已能做到5nm是不是有如...

2023-01-17 標簽：光刻機量子計算 3759 0

淺談ASML EUV光刻機路線圖

目前主力出貨的TWINSCAN NXE: 3600D套刻精度為1.1nm，曝光速度30 mJ/cm2，每小時曝光160片晶圓，年產量為140萬片。

2022-12-21 標簽：光刻機EUV 3419 0

一文解析光刻機的工作原理

利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2022-12-01 標簽：集成電路光刻機 5065 0

一文詳解光刻機的工作原理

　　是的！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的...

2022-11-21 標簽：光刻機 8015 0

看一下EUV光刻的整個過程

EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人...

2022-10-10 標簽：光刻機EUVASML 5708 0

一文解析UCIe技術細節

UCIe[4]是一種開放的行業標準互連，為異構芯片間提供了高帶寬、低延遲、高電源效率和高性價比的封裝內連接，以滿足整個計算系統的需求。

2022-10-10 標簽：封裝光刻機異構芯片 3129 0

高數值孔徑 EUV 系統的好處

隨著光刻膠層變得更薄，整體光刻膠的特性變得不那么重要，并且光刻膠（暴露與否）與顯影劑和底層之間的界面變得更加重要。

2022-09-21 標簽：光刻機EUV光刻膠 1094 0

光刻工藝的8個基本步驟 光刻機結構及工作原理

摩爾定律 Intel創始人之一摩爾1964年提出，大約每隔12個月： 1）。芯片能力增加一倍、芯片價格降低- -倍; 2）。廣大用戶的福音、行業人...

2022-08-29 標簽：光刻光刻機 1.2萬 0

EUV光刻技術出現新的挑戰：3nm節點的金屬間距約為22nm

22 nm 節距quasar illumination的較小部分使得最低衍射級避免了遮擋可以安全使用，但填充的pupil不到 20%，這再次意味著額外的...

2022-08-10 標簽：光刻機光刻技術EUV 1305 0

中國半導體設備現在的狀態到底是怎么樣的

半導體設備位于整個半導體產業鏈的上游，在新建晶圓廠中半導體設備支出的占比普遍達到 80%。一條晶圓制造新建產線的資本支出占比如下：廠房 20%、晶圓制造...

2020-01-21 標簽：電子元器件半導體光刻機 6055 0

光刻技術的原理詳細說明

光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關...

2019-12-21 標簽：芯片集成電路光刻機 2.2萬 0