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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。
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關(guān)于半導(dǎo)體價值鏈分析(設(shè)計、制造和后制造)
半導(dǎo)體價值鏈的制造階段包括晶圓制造、前段制程、中段制程、后段制程和遠(yuǎn)端制程。
2024-02-19 標(biāo)簽:DRAMNAND半導(dǎo)體制造 2014 0
伯努利吸盤是一種基于伯努利原理而工作的非接觸式吸盤。伯努利原理是流體動力學(xué)中的一個基本概念,由18世紀(jì)的瑞士科學(xué)家丹尼爾·伯努利提出。伯努利原理指出,在...
2023-12-27 標(biāo)簽:晶圓砷化鎵半導(dǎo)體制造 3983 0
薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個方向。 PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類,目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半...
2023-12-05 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝半導(dǎo)體制造 6522 0
在半導(dǎo)體芯片制造過程中,需要采用切割工藝對晶圓進(jìn)行劃片,然而傳統(tǒng)的金剛石切割、砂輪切割會對半導(dǎo)體材料造成較為嚴(yán)重的損傷,導(dǎo)致半導(dǎo)體晶圓碎裂、芯片性能下降...
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖...
2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)半導(dǎo)體制造 5028 0
?cmp工藝是什么?化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹
化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹以及其比單純物理研磨的優(yōu)勢介紹。
在芯片制造中,單純的物理研磨是不行的。因為單純的物理研磨會引入顯著的機(jī)械損傷,如劃痕和位錯,且無法達(dá)到所需的平整度,因此不適用于芯片制造。
2023-11-29 標(biāo)簽:集成電路控制系統(tǒng)芯片制造 3261 0
汽車半導(dǎo)體分類及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
去年因汽車半導(dǎo)體供應(yīng)短缺而陷入嚴(yán)重“新車交付危機(jī)”的汽車行業(yè),現(xiàn)在正面臨半導(dǎo)體庫存過剩的擔(dān)憂,汽車半導(dǎo)體需求的減少被認(rèn)為是根本原因。
2023-11-16 標(biāo)簽:恩智浦功率半導(dǎo)體半導(dǎo)體制造 1040 0
芯片流片后經(jīng)常會出現(xiàn)哪些問題?如何解決這些問題呢?
芯片流片是半導(dǎo)體制造中一個非常重要的步驟,是將設(shè)計好的芯片圖案刻印到硅片上,從而制造出成品芯片。
2023-10-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造芯片制程 2239 0
在半導(dǎo)體制造中,刻蝕工序是必不可少的環(huán)節(jié)。而刻蝕又可以分為干法刻蝕與濕法刻蝕,這兩種技術(shù)各有優(yōu)勢,也各有一定的局限性,理解它們之間的差異是至關(guān)重要的。
2023-09-26 標(biāo)簽:mems晶圓半導(dǎo)體制造 8959 1
定向去除微污染物,可助力半導(dǎo)體制造高效除污,確保材料純度
幾乎所有進(jìn)入晶圓廠的物質(zhì),包括液體、氣體和環(huán)境空氣,都有可能攜帶污染物,會對晶圓和器件的性能造成不利影響。每個制程區(qū)域?qū)γ糠N污染物的敏感度各不相同。在不...
2023-09-25 標(biāo)簽:晶圓廠模型半導(dǎo)體制造 764 0
極紫外 (EUVL) 光刻設(shè)備技術(shù)應(yīng)用分析
歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大...
PH? 是常用的n型摻雜氣體。什么是n型摻雜?硅是四價元素,每個硅原子與四個鄰近的硅原子共享電子形成共價鍵。當(dāng)將五價的磷引入到硅晶體中時,其中一個價電子...
2023-09-18 標(biāo)簽:晶體芯片制造半導(dǎo)體制造 3700 0
半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體制造工藝的后道工序,是指將通過測試的晶圓加工得到獨(dú)立芯片的過程,即將制作好的半導(dǎo)體器件放入具有支持、保護(hù)的塑料、陶瓷或金屬外殼中,并與...
EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì),當(dāng)受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,包括提高靈敏度、控制分辨率、減...
2023-09-11 標(biāo)簽:顯示器car半導(dǎo)體制造 1076 0
半導(dǎo)體制造關(guān)鍵流程中的常見技術(shù)難題有哪些
在光刻、晶圓探測、測試、安裝以及切割過程中,視覺對位的準(zhǔn)確性至關(guān)重要。不精準(zhǔn)的對位可能導(dǎo)致頻繁的人工干預(yù),嚴(yán)重時損壞成千上萬塊晶圓。性能低下的視覺系統(tǒng)可...
半導(dǎo)體制造中的清洗工藝技術(shù)改進(jìn)方法
隨著晶體管尺寸的不斷微縮,晶圓制造工藝日益復(fù)雜,對半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來越高。
2023-08-01 標(biāo)簽:芯片設(shè)計晶體管半導(dǎo)體制造 5716 0
半導(dǎo)體是醫(yī)療設(shè)備內(nèi)部工作的一個組成部分,有助于非導(dǎo)體和導(dǎo)體之間的導(dǎo)電性以控制電流。反過來,制造完美半導(dǎo)體的組裝過程非常詳細(xì),尤其是現(xiàn)在設(shè)備變得越來越小。
2023-07-15 標(biāo)簽:激光器醫(yī)療設(shè)備半導(dǎo)體制造 2024 0
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