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標(biāo)簽 > cmp
CMP指令是由美國斯坦福大學(xué)提出的,英文名稱是Chip multiprocessors,翻譯成中文就是單芯片多處理器,也指多核心其思想是將大規(guī)模并行處理器中的SMP(對稱多處理器)集成到同一芯片內(nèi),各個處理器并行執(zhí)行不同的進(jìn)程。與CMP比較, SMT處理器結(jié)構(gòu)的靈活性比較突出。
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眾硅科技榮獲知識產(chǎn)權(quán)年度創(chuàng)新大獎
緣于高強(qiáng)度研發(fā)投入及知識產(chǎn)權(quán)布局,眾硅科技成功實(shí)現(xiàn)了6英寸至12英寸CMP產(chǎn)品全系列開發(fā),其設(shè)備已成功運(yùn)用于眾多知名集成電路芯片及第三代化合物半導(dǎo)體客戶...
2023-12-18 標(biāo)簽:集成電路CMP半導(dǎo)體設(shè)備 979 0
全球CMP拋光液大廠突發(fā)斷供?附CMP拋光材料企業(yè)盤點(diǎn)與投資邏輯(21361字)
(CMP)DSTlslurry斷供:物管通知受臺灣出口管制限制,F(xiàn)ab1DSTSlury(料號:M2701505,AGC-TW)暫停供貨,存貨僅剩5個月...
2025-07-02 標(biāo)簽:CMP半導(dǎo)體制造拋光 918 0
混合清潔法減少銅后CMP缺陷的實(shí)驗(yàn)報(bào)告
我們?nèi)A林科納開發(fā)并實(shí)施了一種依次結(jié)合酸性和堿性清洗方法的“混合”后CuCMP清洗過程。新工藝展示了相對于全堿性刷子清潔工藝,證明了酸性和堿性清潔的優(yōu)點(diǎn),...
Entegris為先進(jìn)制造環(huán)境下良率提升提供整體解決方案
Entegris 是半導(dǎo)體與其他高科技產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)供應(yīng)商,為這些產(chǎn)業(yè)在處理與制造中所用的關(guān)鍵材料,提供純化、保護(hù)和運(yùn)輸所需的多種產(chǎn)品。Entegris...
cmp在機(jī)器學(xué)習(xí)中的作用 如何使用cmp進(jìn)行數(shù)據(jù)對比
在機(jī)器學(xué)習(xí)領(lǐng)域,"cmp"這個術(shù)語可能并不是一個常見的術(shù)語,它可能是指"比較"(comparison)的縮寫。 比較在機(jī)器學(xué)習(xí)中的作用 模型評估 :比較...
2024-12-17 標(biāo)簽:數(shù)據(jù)參數(shù)CMP 884 0
華海清科首臺12英寸單片終端清洗機(jī)HSC-F3400機(jī)臺出機(jī)
華海清科首臺12英寸單片終端清洗機(jī)HSC-F3400機(jī)臺出機(jī) 華海清科股份有限公司是一家擁有核心自主知識產(chǎn)權(quán)的高端半導(dǎo)體設(shè)備制造商,公司主要產(chǎn)品包括CM...
cmp項(xiàng)目管理工具的優(yōu)缺點(diǎn)
CMP項(xiàng)目管理工具,在不同的語境下有不同的含義。一種是指綜合項(xiàng)目管理平臺(Comprehensive Management Platform),它旨在整...
2024-12-17 標(biāo)簽:存儲CMP數(shù)據(jù)源 821 0
鼎龍股份:CMP拋光墊業(yè)務(wù)Q1收入1.35億元 同比增長110%
據(jù)了解,鼎龍股份自2002年起涉足CMP拋光墊領(lǐng)域,經(jīng)過12年的研發(fā)與積累,終于在2021年實(shí)現(xiàn)了大規(guī)模銷售并實(shí)現(xiàn)盈利。目前,該公司已經(jīng)成功確立了CMP...
2024-05-30 標(biāo)簽:顯示面板半導(dǎo)體材料CMP 811 0
cmp的常見問題及解決方案 cmp與大數(shù)據(jù)分析的關(guān)系
CMP(Cloud Management Platform,云管理平臺)是用于管理云計(jì)算資源的軟件解決方案,它允許企業(yè)監(jiān)控、配置和優(yōu)化其云基礎(chǔ)設(shè)施。以下...
半導(dǎo)體國產(chǎn)替代材料 | CMP化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Planarization)
一、CMP工藝與拋光材料的核心價(jià)值化學(xué)機(jī)械拋光(ChemicalMechanicalPlanarization,CMP)是半導(dǎo)體制造中實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平...
《半導(dǎo)體芯科技》雜志文章 Nearfield Instruments B.V.最近推出了AUDIRA系統(tǒng),據(jù)說這是業(yè)界第一個也是唯一一個用于先進(jìn)半導(dǎo)體制...
物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展可謂是人類社會進(jìn)步的自然選擇。隨著物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)的不斷進(jìn)步,物聯(lián)網(wǎng)生態(tài)也在逐步建立。然而各式各樣的終端設(shè)備,海量的數(shù)據(jù)以及復(fù)雜的應(yīng)用場景導(dǎo)致物聯(lián)...
2020-05-26 標(biāo)簽:物聯(lián)網(wǎng)CMP 637 0
PEEK與PPS注塑CMP固定環(huán)的性能對比與工藝優(yōu)化
在半導(dǎo)體制造工藝中,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),而CMP固定環(huán)(保持環(huán))作為拋光頭的核心易耗部件,其性能影響著晶圓加工的良...
2025-04-28 標(biāo)簽:PPSCMP半導(dǎo)體制造 449 0
CMP是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的平坦化工藝,它通過機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的方式,去除材料以實(shí)現(xiàn)平坦化。然而,由于其復(fù)雜性,CMP工藝中可能會出現(xiàn)多種缺陷。這...
注塑加工半導(dǎo)體CMP保持環(huán):高性能材料與精密工藝的結(jié)合
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),而CMP保持環(huán)(固定環(huán))則是這一工藝中不可或缺的核心組件。CMP保持環(huán)的主要...
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