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如何通過(guò)CVD實(shí)現(xiàn)單晶石墨烯的批量合成
說(shuō)起石墨烯,幾乎家喻戶曉,其優(yōu)異的機(jī)械和電學(xué)性能引起全世界科學(xué)家們瘋狂的追捧。盡管目前在實(shí)驗(yàn)室中小尺寸的石墨烯單晶制備及其應(yīng)用研究已經(jīng)獲得了長(zhǎng)足的進(jìn)步,...
接觸孔工藝是集成電路制造中的關(guān)鍵工藝,也是技術(shù)難度最高的工藝之一。接觸孔的尺寸是集成電路工藝中最小的尺寸之一,是決定芯片面積的關(guān)鍵尺寸。
前言 碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈包含碳化硅粉末、碳化硅晶錠、碳化硅襯底、碳化硅外延、碳化硅晶圓、碳化硅芯片和碳化硅器件封裝環(huán)節(jié)。其中襯底、外延片、晶圓、器件封測(cè)是碳化...
隨著工業(yè)的發(fā)展,金屬薄膜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于社會(huì)生產(chǎn)生活中,如:糖果包裝、藥品膠囊包裝、佛像貼金、以及宮殿裝飾等等。
簡(jiǎn)述基于金剛石量子技術(shù)的醫(yī)療成像應(yīng)用
據(jù)麥姆斯咨詢介紹,量子態(tài)的獨(dú)特性能為開(kāi)發(fā)測(cè)量磁場(chǎng)、溫度和電場(chǎng)等變量的高靈敏傳感器提供了巨大潛力。不過(guò),至今該技術(shù)的應(yīng)用仍存在局限性,因?yàn)榱孔討B(tài)(量子比特...
Novellus正在悄悄地開(kāi)發(fā)用于銅的旋轉(zhuǎn)低k,以防萬(wàn)一
應(yīng)用,Novellus正在悄悄地開(kāi)發(fā)用于銅的旋轉(zhuǎn)低k,以防萬(wàn)一 慕尼黑 - 您認(rèn)為IBM公司周一宣布在0.13微米銅IC中使用旋涂低k電介質(zhì)材料將是Ap...
2020-02-12 標(biāo)簽:CVD電介質(zhì)華強(qiáng)pcb線路板打樣 3569 0
不是每種金剛石都能造芯** 金剛石生長(zhǎng)主要分為HTHP法(高溫高壓法)和CVD法(化學(xué)氣相沉積法),二者生長(zhǎng)方法側(cè)重在不同應(yīng)用,未來(lái)相當(dāng)長(zhǎng)時(shí)間內(nèi),...
希科半導(dǎo)體引領(lǐng)SiC外延片量產(chǎn)新時(shí)代
國(guó)產(chǎn)之光??瓢雽?dǎo)體: 引領(lǐng)SiC外延片量產(chǎn)新時(shí)代 希科半導(dǎo)體科技(蘇州)有限公司 碳化硅外延片新聞發(fā)布 暨投產(chǎn)啟動(dòng)儀式圓滿成功 中國(guó)蘇州,2022年11...
二氧化釩(VO?)材料是一種具有絕緣態(tài)到金屬態(tài)可逆相變特性的材料,在光器件及信息技術(shù)中有非常廣泛的應(yīng)用。
金剛石薄膜熱導(dǎo)率測(cè)量的難點(diǎn)和TDTR解決方案
金剛石薄膜的熱導(dǎo)率表征不是一個(gè)簡(jiǎn)單的問(wèn)題,特別是在膜層厚度很薄的情況下美國(guó)國(guó)防部高級(jí)研究計(jì)劃局(DARPA)的電子熱管理金剛石薄膜熱傳輸項(xiàng)目曾經(jīng)將將來(lái)自...
基于MEMS微橋結(jié)構(gòu)技術(shù)制造的微測(cè)輻射熱計(jì)器件
隨著微加工技術(shù)的發(fā)展,基于MEMS微橋結(jié)構(gòu)技術(shù)制造的微測(cè)輻射熱計(jì)器件,具備與半導(dǎo)體讀出電路單芯片集成并實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)的能力,逐漸成為非制冷紅外探測(cè)器的主...
積電仍要依賴上游半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商的支撐
在芯片代工領(lǐng)域,臺(tái)積電占據(jù)主導(dǎo)地位,全球92%的高端芯片都由臺(tái)積電制造。在下一代工藝節(jié)點(diǎn)研制上,臺(tái)積電也跑在業(yè)界前列,計(jì)劃于2022年下半年實(shí)現(xiàn)3nm芯...
金剛石大尺寸晶圓屢創(chuàng)紀(jì)錄加速我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)“彎道超車”
金剛石、氧化鎵、氮化鋁等具有更寬的禁帶寬度,被稱為超寬禁帶半導(dǎo)體,未來(lái)有可能用來(lái)制造具有更低電阻、更高工作功率、更高耐溫能力的功率器件,因此研發(fā)熱度一直不減。
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng) 2023-2030分析
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場(chǎng)上有各種類型...
zpwsmileTrikon CVD集群工具提供低至0.10微米的低k電介質(zhì)路線圖
Trikon CVD集群工具提供低至0.10微米的低k電介質(zhì)路線圖 威爾士NEWPORT - Trikon Technologies Inc.今天宣布推...
2020-02-14 標(biāo)簽:CVD電介質(zhì)華強(qiáng)pcb線路板打樣 1898 0
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)近期,中芯國(guó)際、三星甚至TI都爆出想要建設(shè)晶圓廠的消息,此前,英特爾、臺(tái)積電等大廠也都確認(rèn)將要新建晶圓廠。市場(chǎng)中的缺芯行業(yè)...
熱積存取決于柵極的尺寸,也就是IC芯片的最小圖形尺寸。柵極長(zhǎng)度較小的元器件能使源極/漏極擴(kuò)散的空間小,因此也只有較小的熱積存。
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