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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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對于芯片制造有一定了解的朋友都知道,想要制造芯片是離不開EUV光刻機的,但中國并沒有達到能獨立制造EUV光刻機的地步。所以很多時候,中國制造芯片都需要依...
今天,英特爾新任首席執行官Pat Gelsinger在一場演講中概述了在對英特爾未來幾年的愿景。在題為“英特爾釋放:未來
盡管消息稱中芯國際14nm及以上制程的客服、備品與機臺等相關出口申請獲得許可,但10nm以下仍被卡脖子,尤其是已經技術開發完整只等EUV光刻機進場的7nm。
解讀ASML澄清中芯國際購買協議事件和EUV與DUV的差異性
近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他...
為什么這很重要?在引入EUV系統之前,最先進的IC是使用DUV浸沒式光刻系統制造的。這些DUV系統在193nm的光波長下無法到達7nm節點,因此EUV取...
清華團隊實驗演示穩態微聚束成功, 有望為EUV光刻光源提供新技術路線
實驗展示了如何結合現有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光——的特性。同步輻射設備發射的光子具有高重復率,但由于它們的時間不相干性,功率相對...
在芯片制造的產業鏈中,光刻機是必不可少的精密設備,是集成電路芯片制造中最復雜和關鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機的自主研發還有很長的路要走,基于SSMB...
3月3日晚間,中芯國際在港交所公告,根據批量采購協議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間,就購買阿斯麥產品與阿斯麥集團簽訂購買單,...
EUV光刻機,一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份,時任中國科學院院長白春禮公開表態稱,將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間,中國科學家...
由于西方的禁運,中國芯片制造業無法得到EUV設備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家,分別是臺積電、三星及英特爾。
在ISSCC 2021國際固態電路會議上,臺積電聯席CEO劉德音公布了該公司的最新工藝進展情況,指出3nm工藝超過預期,進度將會提前。 不過劉德音沒有公...
在芯片制造過程中,任何一點小瑕疵都可能造成整批芯片的報廢。因此,這一過程中晶圓監測必不可少,可以保證芯片的良品率和控制成本。
存儲芯片廠商SK海力士宣布,其公司位于韓國首爾南部利川市的M16新廠已經竣工,SK海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在生產存儲芯片。SK海力士經...
ASML宣布了一項合作成果:在印刷24nm節距線方面取得突破
本周在SPIE高級光刻會議上,世界領先的納米電子和數字技術研究與創新中心IEMC與世界領先的半導體光刻設備制造商ASML宣布了一項合作成果。在印刷24n...
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