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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大...
ASML計(jì)劃在2018年生產(chǎn)20臺EUV光刻機(jī)
EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī),是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備,因?yàn)樗l(fā)射的光線波長僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一,能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路,所...
***技術(shù)有多難搞?我國***發(fā)展現(xiàn)狀
搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機(jī)畢竟不是核彈,光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī),需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn),這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價(jià)為...
莫大康:若7nm EUV禁運(yùn),中國半導(dǎo)體怎么辦?
近日見到一文7nm大戰(zhàn)在即買不到EUV光刻機(jī)的大陸廠商怎么辦?。 受瓦圣納條約的限止,今天中國即便有錢想買EUV光刻機(jī)也不可能,此話是事實(shí),不是危言聳聽...
無獨(dú)有偶,兩位共和黨議員此前曾致信拜登政府,要求其勸說荷蘭政府阻止ASML出售DUV光刻機(jī)賣給中芯國際,并且還需與盟國達(dá)成協(xié)議,統(tǒng)一出口限制和許可權(quán)。
關(guān)于EUV光刻的優(yōu)勢和應(yīng)用以及所面臨的的困境
不久之前,半導(dǎo)體行業(yè)還堅(jiān)持認(rèn)為 EUV 掃描儀可以不使用防護(hù)膜,只需要在潔凈的環(huán)境中就可以加工晶圓。之后芯片制造商改變了自己的看法,表示無法保證 EUV...
EUV受限,ASML開綠燈,向中國展示7nmDUV光刻機(jī)
正在進(jìn)行的第三屆進(jìn)博會上,光刻機(jī)巨頭ASML也參展了,并且還在自己的展臺上曬出展示了DUV光刻機(jī)。
我國成功研發(fā)出9nm線寬雙光束超衍射極限光刻試驗(yàn)樣機(jī) 打破國外技術(shù)壟斷
4月10日記者從武漢光電國家研究中心獲悉,該中心甘棕松團(tuán)隊(duì)采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制,采用遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法,光刻出最小9納米線寬...
2019-04-16 標(biāo)簽:EUV 9044 0
麒麟990處理器或采用臺積電EUV技術(shù) 7納米+加強(qiáng)版制程預(yù)計(jì)2019年的第1季進(jìn)行流片
日前,才在英國倫敦發(fā)布會上展出4款Mate 20系列手機(jī),以及新款麒麟980處理器的華為,根據(jù)外電報(bào)導(dǎo),更新一代的麒麟990處理器也已經(jīng)發(fā)展到一個(gè)階段。...
7nm節(jié)點(diǎn)后光刻技術(shù)從DUV轉(zhuǎn)至EUV,設(shè)備價(jià)值劇增
芯片行業(yè)從20世紀(jì)90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻(紫外線波長范圍是10~400nm)用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限,比如容...
三星3nm工藝創(chuàng)新采用‘GAAFET結(jié)構(gòu)’ 芯片面積減少45%
韓國三星電子于15日宣布在Samsung Foundry Forum 2019 USA上發(fā)布工藝設(shè)計(jì)套件(PDK)0.1版3nm Gate-All-Ar...
這還要從三星正式推出8nm制程說起。2017年5月,三星電子半導(dǎo)體事業(yè)部在美國圣克拉拉舉行的三星代工論壇上,公布了其未來幾年的制程工藝路線圖,其中,8n...
EUV要解決的不僅是波長問題,更重要的是,ASML的LPP EUV光源中,激光器需要達(dá)到20kW的功率,而這樣的發(fā)射功率經(jīng)過重重反射,達(dá)到焦點(diǎn)處的功率卻...
EUV工藝不同多重圖形化方案的優(yōu)缺點(diǎn)及新的進(jìn)展研究
與過去相比,研究人員現(xiàn)在已經(jīng)將EUVL作為存儲器關(guān)鍵結(jié)構(gòu)的圖形化工藝的一個(gè)選項(xiàng),例如DRAM的柱體結(jié)構(gòu)及STT-MRAM的MTJ。在本文的第二部分,IM...
說到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道...
新思科技Custom Design Platform獲批三星7LPP工藝技術(shù)認(rèn)證
· 新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術(shù)提供經(jīng)認(rèn)證的工具、PDK、仿真模型、運(yùn)行集(runsets)以及定制參考流...
在半導(dǎo)體制造過程中,光刻機(jī)是最核心的設(shè)備,同時(shí),也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
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