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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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近兩年先進半導體制造主要是也終于迎來了EUV光刻機,這也使7nm之后的工藝發展得以持續進行下去。臺積電和三星都對自家工藝發展進行了規劃,現在兩家已經逐步...
荷蘭時間2019年7月17日,ASML Holding N.V.(ASML)公布了2019年第二季度財報
近日,日韓貿易戰愈演愈烈,日本宣布氟聚酰亞胺(Fluorine Polyimide)、半導體制造中的核心材料光刻膠和高純度氟化氫(Eatching Ga...
7月11日消息,知情人士表示,由于日本針對對韓國產業至關重要的半導體材料實施更嚴格的出口管制,三星電子明年初推出其最先進處理器芯片的雄心計劃可能會被推遲。
采用極紫外(EUV)光刻技術的Cadence 數字全流程解決方案已通過Samsung Foundry 5nm早期低功耗版(5LPE)工藝認證。
眼下,臺積電和三星都在全力沖刺5nm工藝,這將是7nm之后的又一個重要節點,全面應用EUV極紫外光刻技術,提升效果會非常明顯,所以都受到了高度重視。
隨著NVIDIA宣布7nm GPU由三星代工,三星在晶圓代工市場上總算又拉來一個客戶,如果算上之前的IBM Power 10以及傳聞中的高通驍龍865訂...
當前半導體制程微縮已經來到10納米節點以下,EUV極紫外光光刻技術已成為不可或缺的設備,包括現在的7納米制程,以及未來5納米、3納米甚至2納米制程都將采...
2019年上半DRAM價格下跌壓力沉重,盡管上游產能調節以及傳統旺季拉貨需求逐漸回升,預料將有望支撐跌價趨緩,為了提高生產效益及拉大競爭差距,DRAM大...
根據國外媒體報導,曾表示目前制程技術還用不上EUV技術的各大DRAM廠在目前DRAM價格直直落,短期看不到止跌訊號的情況下,也頂不住生產成本的壓力,開始...
DRAM廠商在面對DRAM價格不斷下跌的困境下,已經在考慮導入EUV技術用于制造DRAM,主要目的是為了降低成本。
6月18日,臺積電在上海舉辦了2019中國技術論壇(TSMC2019 Technology Symposium)。臺積電總裁魏家哲介紹了先進工藝的發展規...
繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯制程導入極紫外光(EUV)微影技術后,同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術...
這幾年,雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩,但是在半導體工藝上,幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進入10nm工藝時代并將在后年轉入7nm,臺積電、...
ASML將中斷EUV Pellicle(光罩防塵薄膜)技術的研發,并將該技術轉讓與日本。
NVIDIA或將重新擁抱三星 新圖形芯片Ampere將采用三星7nmEUV制程
6月4日消息,據Digitimes報道,臺積電持續保持先進制程技術領先優勢,7nm制程包攬了大廠訂單,三星決定跳過7nm制程,直接上7nm LPP EVU制程。
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