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減反射薄膜的材料 - 晶體硅太陽電池減反射膜的研究

2011年07月25日 11:30 山西電子技術(shù) 作者:趙 萍,麻曉園,鄒 用戶評論(0
2 減反射薄膜的材料

  要想將光電池對光反~射引起的損失減至最小,因此必須使反射系數(shù)ρ最小,如上分析,對單層減反射薄膜必須滿足:

  

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  對硅光電池來講,如果光直接從空氣射入電池,n0=1,nSi=3.8,則折射率為1.9時的介質(zhì)膜為最佳,但是它僅僅對特定波長的單色光為最佳,對于一般的復(fù)色光源,鄰近特定波長的光,在確定的介質(zhì)材料和厚度下,由于條件不完全滿足,反射光只可能部分地被抵消,雖然ρ有所增大,但對波長較遠(yuǎn)的光,起不到減反射作用,因此在設(shè)計中應(yīng)選取適當(dāng)?shù)膎1材料和制作合適的膜厚t,才能使其波長落在光源輻射最強(qiáng)的波長附近。

  幾種能夠作為減反射薄膜的材料和它的折射率列在表1中,可供參考:

  

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  由于氮化硅的折射率為1.9,是很理想的減反射膜材料,所以研究中采用的就是這種材質(zhì)的減反射膜。氮化硅薄膜的折射率高,其中晶態(tài)氮化硅薄膜的折射率為2.0;非晶態(tài)氮化硅薄膜的折射率會在其左右一定范圍內(nèi)波動。氮化硅薄膜的厚度和顏色有對應(yīng)關(guān)系,如表2所示。

  

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  厚度可用橢圓偏振儀精確測量。在能夠估計厚度范圍的情況下,可根據(jù)氮化硅薄膜的顏色和表中所列的顏色進(jìn)行比較,以此來確定氮化硅膜的大約厚度。圖2~圖4分別為鍍膜前、80 nm左右SiN薄膜和65 nm左右的SiN薄膜圖示。

  

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( 發(fā)表人:葉子 )

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