美國加利福尼亞州山景城和中國上海——2010年5月18日——全球半導體設計制造軟件和知識產權領先企業新思科技有限公司（納斯達克交易代碼：SNPS）和全球領先的半導體制造商中芯國際集成電路有限公司（中芯國際，紐約證券交易所交易代碼：SMI，香港聯交所交易代碼：0981.HK）今天宣布開始提供用于中芯國際65納米（nanometer）低漏電(Low Leakage)工藝技術的新思科技經硅驗證的和獲得USB標志認證的DesignWare? USB 2.0 nanoPHY知識產權（IP）。作為一家提供包括控制器、PHY和驗證IP等USB2.0接口完整IP解決方案的領先供應商，新思科技繼續致力于通過提供高品質IP助力設計人員降低集成風險，這些IP具備了驗證過的互操作性，并與標準規范設計兼容。

DesignWare USB 2.0 nanoPHY IP專為各種高市場容量移動和消費電子應用而設計的，這些應用的關鍵要求包括要實現面積最小、低動態和泄漏功耗等特性。此外，DesignWare USB 2.0 nanoPHY IP內建了調整電路，可支持快速的、芯片加工后的調整，以應對意外的芯片/電路板寄生或工藝變化，而無需用戶對現有設計進行修改。這一特性使得設計人員能夠提高良品率，并最大限度地降低昂貴的芯片改版成本。

?“新思科技經過硅驗證的DesignWare USB2.0 nanoPHY IP與中芯國際的低漏電65nm工藝技術相互融合，使得我們雙方的客戶能夠容易地將先進功能集成到可幫助他們滿足低功耗要求、實現關鍵上市時間目標和快速投入量產的工藝中，”中芯國際高級副總裁兼首席業務官季克非表示，“近來，客戶充分利用中芯國際65納米低漏電工藝和新思科技USB2.0 nanoPHY IP在硅晶片領域大獲成功，這讓我們信心倍增。我們將加強與新思科技的戰略和協同關系，利用我們業內領先的集成、功率效率和性價比，為我們的客戶提供明顯領先的優勢。我們期待著與新思科技一如既往地開展持續合作，并向更先進的工藝制程邁進。”

?“隨著新思科技面向SMIC 65 nm LL 工藝技術的高品質DesignWare USB2.0 nanoPHY的上市，我們將繼續向設計人員提供他們滿足當今制造工藝要求所需的知識產權，”新思科技解決方案集團營銷副總裁John Koeter表示，“我們通過與中芯國際合作，在其65 nm低漏電工藝中對我們的USB 2.0 nanoPHY IP進行硅驗證。這種做法為我們的客戶提供了成熟的、經過認證的IP解決方案，使他們能夠在集成DesignWare IP的過程中降低所面臨的風險，并加快產品的上市時間。”

關于DesignWare IP
新思科技有限公司是用于系統級芯片（SoC）設計的高質量、經生產驗證的接口和模擬IP解決方案的領先提供商。Synopsys廣泛的產品系列提供了完整的連接IP解決方案，包括控制器、PHY和驗證IP，適用于眾多已廣泛應用的協議，如USB、PCI Express、DDR、SATAHDMI、MIPI和以太網等，3G DigRF, CSI-2 and D-PHY。模塊IP系列產品包括模數轉換器、數模轉換器、音頻編解碼器、視頻模擬前端、觸摸屏控制器和其它許多產品。此外，Synopsys還提供用于構建虛擬平臺的SystemC事務級模型，可用于軟件的快速開發以及芯片生產前的開發工作。在強有力的IP開發方法支持下，以及憑借在質量和全面技術支持方面的大力投入，Synopsys讓設計人員能夠加快產品上市周期和減少集成風險。

關于中芯國際