（文章來源：科技小狂人009）

隨著時(shí)代的不斷變化發(fā)展，眾多以科技為背景的產(chǎn)業(yè)由此崛起，在改變了人們傳統(tǒng)生活方式的同時(shí)，也對(duì)國家和社會(huì)的發(fā)展起到了積極的促進(jìn)作用。當(dāng)然，得益于我國在科技研發(fā)領(lǐng)域的巨額投入，如今中國科技也已經(jīng)躋身到了世界一線前沿，其中表現(xiàn)最為明顯的無非就是在智能手機(jī)領(lǐng)域。

縱觀目前全球智能手機(jī)市場(chǎng)，國產(chǎn)手機(jī)陣營基本實(shí)現(xiàn)了全球覆蓋，可即便如此，智能手機(jī)的核心組成部件-芯片卻是我國最大的短板。由于芯片技術(shù)的短缺，使得我國科技企業(yè)長期以來需要依靠海外進(jìn)口，這樣一來不但沒有議價(jià)權(quán)，同時(shí)還會(huì)面臨著卡脖子的境遇，而中興和華為事件的發(fā)生不就正好說明了問題所在。

實(shí)際上，從現(xiàn)階段來看，包括華為在內(nèi)的中國科技企業(yè)都已經(jīng)突破了芯片設(shè)計(jì)的技術(shù)瓶頸，但是芯片制造環(huán)節(jié)依舊是最大的短板，其中，制造芯片的光刻機(jī)也成為了重中之重。不過有礙于光刻機(jī)巨頭-荷蘭ASML的政策限制，使得國內(nèi)高科技技術(shù)企業(yè)無法購買ASML的高端光刻機(jī)，因此對(duì)于我國而言，掌握光刻機(jī)技術(shù)也變得迫在眉睫。

目前光刻機(jī)領(lǐng)域的平均水平在14nm工藝范疇，最先進(jìn)的則是7nm工藝掌握在荷蘭ASML手中，其他國家所涉及的光刻機(jī)技術(shù)還有9nm工藝，主要掌握在日本和德國手里。所以，在我國龐大的電子產(chǎn)業(yè)群之下，沒有先進(jìn)光刻機(jī)的支持，必然會(huì)約束到我國電子產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型與升級(jí)。所以在意識(shí)到光刻機(jī)的重要性之后，我國也開始大加大了對(duì)光刻機(jī)研發(fā)的投入。

目前，包括中芯國際和華虹集團(tuán)都已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)28nm和90nm工藝的水平，與9nm和7nm依舊有著很大的差距。不過在近日，中國芯片再傳捷報(bào)，國產(chǎn)光刻機(jī)拐彎超車，攻克9nm技術(shù)難關(guān)！根據(jù)相關(guān)媒體的報(bào)道，由我國武漢光電國家研究中心的甘棕松團(tuán)隊(duì)，成功研發(fā)出9nm工藝光刻機(jī)。

此次研發(fā)成功的9nm光刻機(jī)技術(shù)與西方不同是，國產(chǎn)光刻機(jī)利用了二束激光在自研的光刻機(jī)上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9nm線寬的線段，這是我們獨(dú)有的技術(shù)，我們也將擁有自主產(chǎn)權(quán)。不過，現(xiàn)階段9nm光刻機(jī)技術(shù)還僅限于試驗(yàn)階段，但是作為國人的我們有理由相信，在不久的將來，國產(chǎn)光刻機(jī)必然會(huì)走出實(shí)驗(yàn)室，實(shí)現(xiàn)芯片量產(chǎn)。

同時(shí)，國產(chǎn)光刻機(jī)在技術(shù)上的突破在我國芯片發(fā)展史上也有著重要意義，畢竟這也代表著我國科技企業(yè)在未來可以減少對(duì)海外芯片的依賴，從而提高我國在電子產(chǎn)業(yè)中地位。讓中國芯片走向更大的世界舞臺(tái)。
（責(zé)任編輯：fqj）