91在线观看视频-91在线观看视频-91在线观看免费视频-91在线观看免费-欧美第二页-欧美第1页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

EUV光刻設(shè)備很好賣

汽車玩家 ? 來源:今日頭條 ? 作者:今日頭條 ? 2019-11-26 15:06 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

11月25日,市場研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過去三年來,應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備市場上失去市場份額,而 ASML卻將憑借其價格高昂的EUV光刻設(shè)備大批出貨實現(xiàn)超越,取代應(yīng)用材料成為最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。”

據(jù)了解,應(yīng)用材料在2018年的市場份額為19.2%(低于2015年的23.0%),今年小幅增長到了19.4%。而ASML的市場份額今年有望從2018年的18.0%增長到21.6%。

卡斯特拉諾還表示,到2020年,整個WFE市場將迎來5%的小幅增長,再加上半導(dǎo)體制造商原先計劃的資本支出,ASML的市場份額有望進一步提高到22.8%,而應(yīng)用材料將保持其19.3%的份額。

根據(jù)集微網(wǎng)此前報道,ASML稱,第3季度售出了7套EUV系統(tǒng),僅EUV設(shè)備就帶來了7.43億歐元的營收。另外,第3季度還接到了23套EUV系統(tǒng)的訂單。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    53

    文章

    5154

    瀏覽量

    129728
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87200
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?103次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    詳談X射線光刻技術(shù)

    隨著極紫外光刻EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢,在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
    的頭像 發(fā)表于 05-09 10:08 ?351次閱讀
    詳談X射線<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費試用

    光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
    發(fā)表于 05-02 12:42

    DSA技術(shù):突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案

    劑量的需求也加劇,從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù):一種革命性的方法DSA技術(shù)通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個或多個化學(xué)性
    的頭像 發(fā)表于 03-19 11:10 ?581次閱讀
    DSA技術(shù):突破<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>瓶頸的革命性解決方案

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1003次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    碳納米管在EUV光刻效率中的作用

    數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化,縮小至 3 納米及以下,這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個 21 世紀(jì),這種令人難以置信的縮小趨勢(從 90 納米到 7 納米及更小)開創(chuàng)了技術(shù)進步的新時代。 在過去十年中,我們見證了將50
    的頭像 發(fā)表于 01-22 14:06 ?544次閱讀
    碳納米管在<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>效率中的作用

    納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻EUV)競爭

    芯片制造、價值1.5億美元的極紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv光刻掃描
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:31 ?547次閱讀

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2187次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻</b>機的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝,
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?900次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機就位

    Prolith和HyperLith?主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻設(shè)計

    這些設(shè)置?1。 ?靈活性?:用戶可以根據(jù)需要選擇不同的仿真技術(shù),如DUV、Immersion、EUV等,并且可以處理嚴(yán)格/標(biāo)量、偏振、像差和抗蝕劑模型?1。 ?分布式計算支持?:HyperLith支持
    發(fā)表于 11-29 22:18

    美投資8.25億美元建設(shè)NSTC關(guān)鍵設(shè)施,重點發(fā)展EUV光刻技術(shù)

    拜登政府已宣布一項重大投資決策,計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設(shè)國家半導(dǎo)體技術(shù)中心(NSTC)的核心設(shè)施。據(jù)美國商務(wù)部透露,奧爾巴尼的這一基地將特別聚焦于極紫外(EUV光刻技術(shù)的研發(fā)。
    的頭像 發(fā)表于 11-01 14:12 ?933次閱讀

    今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻

    1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機,加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機設(shè)備,這標(biāo)
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1043次閱讀

    日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻

    英特爾將在日本設(shè)立先進半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強本土研發(fā)能力。 據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月3日報導(dǎo),美國處理器大廠英特爾已
    的頭像 發(fā)表于 09-05 10:57 ?673次閱讀

    日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

    近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限,其設(shè)計的光刻設(shè)備
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?1616次閱讀

    日企大力投資光刻膠等關(guān)鍵EUV材料

    日本在EUV光刻領(lǐng)域保留著對供應(yīng)鏈關(guān)鍵部分的控制,例如半導(dǎo)體材料。 據(jù)了解,芯片制造涉及19種關(guān)鍵材料,且多數(shù)都具有較高技術(shù)壁壘,而日本企業(yè)在其中14種關(guān)鍵材料中占據(jù)全球超過50%的市場份額。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-16 18:27 ?430次閱讀
    主站蜘蛛池模板: 五月综合色婷婷影院在线观看 | 可以免费播放的在线视频 | 性色欧美| 永久免费视频网站在线观看 | 国产成人三级视频在线观看播放 | 亚洲专区一 | 男人视频网| 日本黄色免费电影 | 五月天婷婷网站 | 都市激情综合 | 在线观看不卡一区 | 天天射天天操天天色 | 激情五月综合网 | 69国产成人精品午夜福中文 | 丁香狠狠 | 一区二区三区四区视频在线 | 视频在线视频免费观看 | 五月天婷婷免费视频观看 | 日本在线视频不卡 | 成人一级网站 | 午夜在线一区 | 日本高清午夜色wwwσ | 一级黄色录像毛片 | 国产1区二区 | 天天摸夜夜添狠狠添2018 | 女人被狂躁视频免费网站 | 可以直接看的黄址 | 在线亚洲精品中文字幕美乳 | 在线精品国产成人综合第一页 | 深夜偷偷看视频在线观看 | 上色天天综合网 | 午夜在线免费观看视频 | 特黄一级大片 | 日本福利小视频 | 特黄特黄特色大片免费观看 | 亚洲综合激情丁香六月 | 天天干天天射天天插 | 香港三级在线视频 | 午夜剧场黄色 | 成人免费一区二区三区 | 天天视频免费观看高清影视 |