10月14日，ASML發(fā)布了2020年第三季度財報：第三季度凈銷售額為40億歐元，凈利潤為11億歐元，毛利率達(dá)到47.5%。第三季度的新增訂單金額為29億歐元。

對于目前的業(yè)績，ASML總裁兼首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示：“我們第三季度的銷售額達(dá)到 40 億歐元， 超過我們的預(yù)期。毛利率維持在 47.5%。我們一共交付了 10 臺 EUV 系統(tǒng)，并在本季度實(shí)現(xiàn)了 14 臺系統(tǒng)的銷售收入。在過去的第三季度中，我們的業(yè)務(wù)沒有因?yàn)橐咔槭艿酱笠?guī)模的負(fù)面影響。我們第三季度的新增訂單達(dá)到 29 億歐元，其中 5.95 億歐元來自 4 臺 EUV 設(shè)備。” 從這個說明我們可以看到，ASML EUV光刻機(jī)的售價約為1.48億歐元，折合人民幣11.74億元。

ASML CFO Roger Dassen在財報會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況。

Roger Dassen指出，在中國業(yè)務(wù)方面，去年中國本土客戶為ASML創(chuàng)造了約8億歐元的銷售額，今年將會更多，預(yù)計超過10億歐元。 關(guān)于美國有可能對中芯國際采取限制措施，Roger Dassen表示，ASML今年客戶以邏輯工藝領(lǐng)域?yàn)橹鳎行緡H則是ASML的主要邏輯工藝領(lǐng)域客戶。 “我們不會對特定的客戶情況進(jìn)行推測或評論，但總的來說，我們會在法律和法規(guī)要求的范圍內(nèi)盡最大的能力繼續(xù)為客戶提供服務(wù)。”Roger Dassen如是說。 Roger Dassen進(jìn)一步指出，ASML了解美國當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋，當(dāng)然也知道這些與特定的中國客戶密切相關(guān)，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運(yùn)往此類客戶的零件或系統(tǒng)，ASML則需要為此申請出口許可證。 據(jù)Peter Wennink介紹，DUV光刻機(jī)方面，該公司在本季度對第一臺TWINSCAN NXT：2050i進(jìn)行了質(zhì)量認(rèn)證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT：2050i是基于NXT平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進(jìn)。由于這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產(chǎn)率，NXT：2050i 將立即進(jìn)入批量生產(chǎn)。

EUV光刻機(jī)方面，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B 系統(tǒng)在客戶處同時進(jìn)行了生產(chǎn)率模組的升級，在三季度完成。ASML還披露他們?nèi)碌臉O紫外光刻機(jī)將在明年年中開始出貨的，型號為TWINSCAN NXE:3600D。

TWINSCAN NXE:3400B 在財報中，阿斯麥表示他們已經(jīng)敲定了TWINSCAN NXE:3600D的最終規(guī)格，這是 EUV 路線圖上的新機(jī)型，具體來說，30mJ/c㎡的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm，計劃于2021年中期開始發(fā)貨，客戶還需要一定時間等待，價格應(yīng)該不會低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。 值得注意的是，在2019年的年報中，阿斯麥就曾披露他們在研發(fā)新一代的極紫外光刻機(jī)，但當(dāng)時他們是計劃在2022年年初開始出貨，2024或者2025年大規(guī)模生產(chǎn)。三季度財報中披露在明年年中開始出貨，也就意味著出貨時間較原計劃提前了半年。 極紫外光刻機(jī)是7nm和5nm芯片制程工藝所必不可少的設(shè)備，目前全球只有阿斯麥能供應(yīng)。臺積電、三星這兩大芯片代工商的制程工藝都已提升到了7nm和5nm，他們所需要的極紫外光刻機(jī)也全部仰仗于阿斯麥，全新的TWINSCAN NXE:3600D的首臺，預(yù)計也會交由這兩家代工商中的一家。 三星正試圖通過EUV技術(shù)來增強(qiáng)其芯片制造能力。自2000年以來，三星一直與ASML合作，以提高其在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的競爭力。2012年，韓國科技巨頭甚至對ASML進(jìn)行了戰(zhàn)略投資。三星在韓國平澤市建設(shè)一條新的生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線專注于基于EUV的5納米及以下工藝技術(shù)。

據(jù)韓聯(lián)社報道，日前，三星電子副董事長李在镕（Lee Jae-yong）與ASML Holding NV的高管會面，李與ASML高管討論了超紫外線（EUV）設(shè)備的供應(yīng)計劃，他還參觀了ASML的工廠，以檢查其EUV設(shè)備的生產(chǎn)。 目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/c㎡，每小時可曝光125片晶圓。

TWINSCAN NXE:3400C 據(jù)悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺光刻機(jī)收入，出貨了10臺EUV光刻機(jī)。

對于第四季度的市場和銷售預(yù)期，Peter Wennink 表示：“我們期待第四季度的銷售額將在36億歐元到38億歐元之間，毛利率約在 50%。研發(fā)成本約 5.5 億歐元，銷售及管理費(fèi)用約 1.4 億歐元。我們將實(shí)現(xiàn) 2020 年全年的銷售預(yù)期。預(yù)估 2020 年度有效稅率在 14%左右。“ 展望2021年，Peter Wennink認(rèn)為，5G，人工智能和高性能計算將推動先進(jìn)制程邏輯芯片和存儲芯片的市場需求，這些都需要使用先進(jìn)的光刻機(jī)。
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