11月5日,世界***巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)***的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV***,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)***。據(jù)悉,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
ASML此次也帶來(lái)了其整體光刻解決方案,包括先進(jìn)控制能力的***臺(tái)計(jì)算光刻和測(cè)量通過(guò)建模、仿真、分析等技術(shù),讓邊緣定位精度不斷提高。
ASML中國(guó)區(qū)總裁沈波接受媒體采訪時(shí)表示,該公司對(duì)向中國(guó)出口集成電路***持開(kāi)放態(tài)度,對(duì)全球客戶均一視同仁,在法律法規(guī)框架下,都將全力支持。
沈波透露,自30年前進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)以來(lái),ASML已提供了全面的技術(shù)和能力來(lái)滿足中國(guó)客戶的需求。目前在中國(guó)一共為客戶提供了700多臺(tái)裝機(jī)。在遵守法律法規(guī)的同時(shí),ASML全力支持客戶和中國(guó)集成電路行業(yè)的發(fā)展。
被問(wèn)及有沒(méi)有向中國(guó)出口EUV***的打算,他表示,EUV***還在等荷蘭政府的出口許可證。ASML必須要在遵守法律法規(guī)的前提下進(jìn)行***出口。“但我們對(duì)向中國(guó)出口***是保持很開(kāi)放態(tài)度的,我們對(duì)全球客戶都一視同仁,只要是我們能夠提供的技術(shù)和設(shè)備,我們都會(huì)全力支持。”
據(jù)了解,目前,市場(chǎng)上***主要分為兩種,一種是DUV光源,另外一種是EUV光源。后者相比前者精度更高,但價(jià)格也更貴,而且目前全球只有荷蘭ASML有能力生產(chǎn)EUV***,而且一年產(chǎn)量還很有限。EUV***售價(jià)在1.12億歐元左右,約合人民幣將近10億。而DUV***價(jià)值則是在6億左右,便宜了40%。
EUV***因?yàn)楣庠词歉吣茏贤饩€的緣故,一次曝光就可以實(shí)現(xiàn)芯片制造,生產(chǎn)效率更高,良品率也遠(yuǎn)高于DUV***,這為芯片制造商節(jié)省了許多的生產(chǎn)成本,也相當(dāng)于變相提高產(chǎn)能。
相比之下,DUV***生產(chǎn)7nm工藝芯片步驟繁瑣,液浸式DUV***需要多次曝光才能達(dá)到7nm效果,而每一次曝光都會(huì)使產(chǎn)品生產(chǎn)成本大幅提升,良品率也會(huì)快速下降。
據(jù)悉,ASML目前最先進(jìn)的EUV(極紫外光)***可生產(chǎn)5nm芯片,iPhone 12所搭載的A14芯片也需要在ASML EUV***支持下生產(chǎn)。
深紫外光(DUV),KrF 準(zhǔn)分子激光:248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光:193 nm;極紫外光(EUV),10 ~ 15 nm
責(zé)編AJX
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