韓國本土企業在EUV光刻技術方面取得了極大進展

據韓國媒體 BusinessKorea 上周報道，韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪一家企業，合理推測應指代韓國整個半導體光刻產業。

韓國知識產權局（KIPO）發布的《過去10年（2011-2020年）專利申請報告》顯示，2014年，向韓國知識產權局（KIPO）提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值，2018年達到55件，2019年達到50件。

特別是，韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年，韓國本土提出的專利申請數量為40件，超過了國外企業的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年，韓國提交的申請數量也是國外的兩倍多。

過去10年，包括三星電子在內的全球企業進行了密集的研發，以確保技術領先地位。最近，代工公司開始使用5nm EUV光刻技術來生產智能手機的應用處理器。

從公司來看，全球六大公司的專利申請數占了總數的59%，卡爾蔡司（德國）18%，三星電子（韓國）15%，ASML（荷蘭）11%，S&S Tech（韓國）8%，臺積電（中國臺灣）6%，SK海力士（韓國）1%。

從具體技術項目看，工藝技術申請專利占32%，曝光裝置技術申請專利占31%，掩膜技術申請專利占28%，其他申請專利占9%。在工藝技術領域，三星電子占39%，臺積電占15%。在光罩領域，S&S科技占28%，Hoya（日本）占15%，漢陽大學（韓國）占10%，朝日玻璃（日本）占10%，三星電子占9%。

責任編輯：xj

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