自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球只有荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML能造，對(duì)此也有很多網(wǎng)友們感覺(jué)到非常疑惑，為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備呢？像我國(guó)的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來(lái)嗎？

從目前頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)設(shè)備，采用是極紫外線(xiàn)，波長(zhǎng)為13.5納米，要知道在目前可見(jiàn)光中的紫光波長(zhǎng)最短也只有380-450納米，所以想要獲得13.5納米的“極紫外線(xiàn)”，就需要經(jīng)過(guò)特殊工藝處理，而ASML公司的做法就是，直接將高純度的錫加熱到熔化，然后再?lài)娚涞秸婵罩兄苯有纬慑a珠，然后再通過(guò)激光照射這些錫珠，讓錫珠變成粉餅狀，然后還需要用到高功率的二氧化碳激光照射去照射這些“粉餅”，才可以釋放出極波長(zhǎng)為13.5納米的紫外線(xiàn)，但就是這樣一套極紫外線(xiàn)生成的解決方案，都有多家公司提供合成，例如ASML公司只提供了錫珠噴射方案，而高功率二氧化碳激光方案等整體方案則由德國(guó)的TRUMPF公司提供。

看到這里，或許很多網(wǎng)友們會(huì)說(shuō)：“有了極紫外線(xiàn)不就可以生產(chǎn)芯片了嗎？” 但實(shí)際上還需要對(duì)這些產(chǎn)生的極紫外線(xiàn)進(jìn)行下一步處理，讓這些從隨機(jī)向四面發(fā)射極紫外線(xiàn)收集起來(lái)，轉(zhuǎn)變?yōu)榉较蛞恢碌臉O紫外線(xiàn)，而這里又需要使用到布拉格反射器，直接將向四面發(fā)射的極紫外光源集合起來(lái)，匯聚成一束強(qiáng)的光線(xiàn)用于芯片光刻，而在這種布拉格反射器又是由卡爾蔡司（Zeiss SMT）所提供，在全球范圍內(nèi)，還沒(méi)有找到超越卡爾蔡司（Zeiss SMT）第二家公司。

可以說(shuō)一整臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī)設(shè)備中，擁有高達(dá)3萬(wàn)多個(gè)零部件，他們都來(lái)自于全球各國(guó)的頂尖技術(shù)或者是設(shè)備，當(dāng)然即便是你購(gòu)買(mǎi)到了ASML公司的極紫外光刻機(jī)，如果沒(méi)有ASML公司的幫助，你也無(wú)法正常安裝使用，因?yàn)镋UV極紫外光刻機(jī)設(shè)備需要在一個(gè)清潔度非常高的車(chē)間中，完成整個(gè)光刻機(jī)設(shè)備的安裝調(diào)試，才能夠達(dá)到7nm EUV、5nm工藝芯片工藝的精度，看到這里，也就不難理解， 為何只有荷蘭ASML公司能夠擁有EUV光刻機(jī)技術(shù)了吧，因?yàn)楹商mASML公司也是整合了全球各國(guó)頂尖的技術(shù)。
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