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三星部署擴展EUV光刻工藝,爭取提高性能

如意 ? 來源:快科技 ? 作者:萬南 ? 2020-12-05 09:14 ? 次閱讀
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繼SK海力士日前宣布在M14和建設中的M16工廠均引入EUV光刻機后,三星也坐不住了。

按照三星的說法,自2014年以來,EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片,公司積累了豐富的經驗,也比其它廠商掌握更多訣竅,領先對手1到2年。

據悉,三星的1z nm DRAM第三代內存已經用上了一層EUV,第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝,提供工藝精度,從而可以減少生產時間、降低成本,并提高性能。

盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV,但層數過少對效率提升并不明顯,也就是單位成本高,畢竟EUV光刻機買一臺要10億元。三星這方面倒是有優勢,因為自己還有晶圓廠,“東方不亮西方亮”光刻機的利用率很高。


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