ASML預(yù)計今年將出貨交付40臺EUV光刻機 單價14億元！
在四季度財報會議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計今年將出貨交付40臺EUV光刻機，比去年多9臺。
CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度，ASML手里未出貨的訂單價值42億歐元，其中包括價值11億歐元的6套EUV設(shè)備，大概每臺單價是1.83歐元（約合14億元），比此前1.2億歐貴了。即便如此，對于三星、臺積電、Intel來說仍供不應(yīng)求，誰讓EUV光刻機ASML獨一份呢……
Wennink還表示將推進0.33NA的EUV設(shè)備應(yīng)用，以滿足客戶的節(jié)點需求（5nm、7nm等）。
據(jù)悉，ASML四季度凈銷售額為43億歐元，凈利潤為14億歐元。2020年全年凈銷售額為140億歐元，毛利率達到48.6%，凈利潤為36億歐元。
此前資料稱，ASML定于今年中旬交付最新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機器匹配套準(zhǔn)精度改進為1.1nm。
責(zé)任編輯：PSY
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
設(shè)備
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
4639瀏覽量
71509 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
723瀏覽量
42073 -
EUV光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15416
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（
日本首臺EUV光刻機就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，設(shè)備安裝
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程
光刻機巨頭拋出重磅信號 阿斯麥（ASML）股價大幅上漲
在2024年投資者會議上，光刻機巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價開始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布，預(yù)計2030年的銷售額將在440億歐元至6
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
光刻機售價約3.5億美元（約合人民幣25億元），遠高于ASML標(biāo)準(zhǔn)EUV系列的1.8億~2
發(fā)表于 10-31 10:56
?996次閱讀
光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML股價暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅
在當(dāng)?shù)貢r間周二，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績報告；訂單量環(huán)比下降53%，?業(yè)績爆雷第一時間反應(yīng)到ASML公司的股價暴跌。 在美股市場，光刻機巨頭阿斯麥（ASML
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機，將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據(jù)報道，ASML預(yù)計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機（EUV
工商網(wǎng)監(jiān)
評論