ASML今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)
在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。
CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度，ASML手里未出貨的訂單價(jià)值42億歐元，其中包括價(jià)值11億歐元的6套EUV設(shè)備，大概每臺(tái)單價(jià)是1.83歐元（約合14億元），比此前1.2億歐貴了。即便如此，對(duì)于三星、臺(tái)積電、Intel來說仍供不應(yīng)求，誰(shuí)讓EUV光刻機(jī)ASML獨(dú)一份呢……
Wennink還表示將推進(jìn)0.33NA的EUV設(shè)備應(yīng)用，以滿足客戶的節(jié)點(diǎn)需求（5nm、7nm等）。
據(jù)悉，ASML四季度凈銷售額為43億歐元，凈利潤(rùn)為14億歐元。2020年全年凈銷售額為140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%，凈利潤(rùn)為36億歐元。
此前資料稱，ASML定于今年中旬交付最新一代EUV光刻機(jī)TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm。
責(zé)編AJX
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1. ASML 今年將向臺(tái)積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報(bào)道，芯片制造設(shè)備商AS
發(fā)表于 06-06 11:09
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后門！ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)！
來源：國(guó)芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報(bào)道，臺(tái)積電從ASML購(gòu)買的EUV極紫外光刻機(jī)，暗藏后門，可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定！ 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道，荷蘭
ASML考慮推出通用EUV光刻平臺(tái)
范登布林克指出，更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進(jìn)一步解釋說，Hyper NA 光刻機(jī)將簡(jiǎn)化先進(jìn)制程生產(chǎn)流程，避免因使用 High NA 光刻機(jī)進(jìn)行雙重圖案化導(dǎo)致的額外步驟及風(fēng)險(xiǎn)。
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盡管High NA EUV光刻機(jī)有望使芯片設(shè)計(jì)尺寸縮減達(dá)三分之二，但芯片制造商需要權(quán)衡利弊，考慮其高昂的成本及ASML老款設(shè)備的可靠性問題。
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