ASML對光刻機的壟斷

一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進的EUV光刻機方面，ASML更是占據了絕對壟斷的地位。

EUV與DUV光刻機最大的區別就在于前者使用的光源是極紫外光，而后者的光源就比較普通了，為深紫外光。可能很多人都不明白極紫外光和深紫外光到底有什么不同，如果從實際應用的角度來看，由極紫外光刻機生產出來的芯片要比深紫外光刻機更高端。

舉個簡單的例子，在如今的半導體行業，7nm和5nm 制程的芯片代表著最高工藝水平，而要想成功量產出這兩款芯片，必須得到EUV光刻機的支持。換而言之，ASML制造出的EUV光刻機是生產7nm和5nm，甚至是3nm芯片的核心設備，無法被代替。

正因于此，對于全球的芯片制造產業來說，ASML扮演著一個非常重要的角色。如果未來某天ASML無法再保證DUV或者是EUV光刻機的正常供應，那么像臺積電、三星等世界頂尖的芯片代工廠都會受到不利的影響，半導體行業的發展也會陷入瓶頸。

作為人類能生產出的最頂尖的機器設備，光刻機的重要性已經不需要再多說了，ASML僅憑這一項業務就能在半導體市場站穩腳跟，并且還享有很大的話語權。尤其是在我們國內市場，國產芯片之所以遲遲無法崛起，就是因為缺少光刻機的支持。

雖然國內也有一家光刻機廠商，名為上海微電子，但是目前它能生產出的最先進的光刻機精度只有22nm，與ASML相比還有一定的差距。所以就如今的情況來看，如何突破到更高精度的光刻機，是國內芯片事業實現自主化目標的首要問題。

清華大學正式宣布好消息

光刻機的精度主要取決于光源的波長和功率，這意味著只要國內攻克了極紫外光技術，就很有可能獨立生產出EUV光刻機，打破ASML的壟斷。那么現在國內有沒有可能掌握極紫外光技術呢？答案是肯定的！

2月25日，據國內最新消息顯示，ASML也沒料到，關于光刻機問題，清華大學正式宣布好消息！據了解，在經過長時間的刻苦鉆研后，清華大學的研發團隊在新型加速器光源“穩態微聚束”領域取得了重大突破，或許能幫助國產公司攻克極紫外光的難題！

所謂的加速器光源指的就是，光子通過加速可以實現從太赫茲到極紫外光之間不同的波長，可以為光刻機的研究提供最基本的技術支持。只要光源問題徹底解決了，那么國內的光刻機研究就會邁向下一個階段，國產EUV光刻機的誕生也不只是說說而已。

毫無疑問，對于國產芯片事業而言，清華大學宣布的這項技術成果是一個非常好的消息，如果運用得當，將成為國內芯片產業全面崛起的“催化劑”。而ASML對此肯定高興不起來，它也沒料到，國產光刻機和光源技術能取得這么大的進步。

從清華大學的突破中不難看出，如今國內對芯片和半導體行業的重視程度非常高，無論是眾多國產企業還是各大研究機構，都投身到了這項偉大的事業中。相信將來不僅僅是清華大學，會有越來越多的好消息傳來，國產芯片的崛起不只是一個夢想！

寫在最后

雖然EUV光刻機的難度超出了普通人的想象，而且常年被ASML壟斷，別的公司或國家根本不了解其核心技術，但是在國內不斷地努力下， 再難的技術都會被攻克，EUV光刻機也不例外。等到那個時候，ASML將徹底失去優勢地位，國產光刻機會讓全世界刮目相看！
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