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中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝

中國半導體論壇 ? 來源:快科技 ? 作者:快科技 ? 2021-05-14 09:46 ? 次閱讀

做為國內最大也是最先進的半導體制造公司,中芯國際在先進工藝上的進展引人關注,其中7nm及以下節點非常重要,這還牽涉到EUV光刻機。

日前有股民在互動平臺上詢問,稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國際澄清。

對此,中芯國際表示,公司不針對傳言進行評論。

從中芯國際官網的介紹來看,該公司提到的最先進工藝還是14nm,接下來的是N+1、N+2工藝,但沒有指明具體的工藝節點。

中芯國際聯合CEO趙海軍曾表示,經過三年的積累,FinFET工藝已經取得了不錯的成績,N+1已經進入了風險量產,但是在外部因素的影響下,去年四季度起FinFET的產能利用率不足,爬坡需要時間,營收奉獻尚未達到預期水準,折舊又對公司整體的盈利造成了負擔。

責任編輯:lq

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原文標題:不用EUV光刻機就搞定類7nm工藝?中芯國際回應

文章出處:【微信號:CSF211ic,微信公眾號:中國半導體論壇】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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