近日，上海新陽發布公告稱，公司自主研發的KrF（248nm）厚膜光刻膠產品已經通過客戶認證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯進展。

光刻膠用于半導體光刻工藝環節，是決定制造質量的重要因素，根據曝光波長不同，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻膠，其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認為是高端光刻膠，目前國內幾乎空白。

日本壟斷全球光刻膠大部分市場份額，全球排名前四的光刻膠廠商都來自日本，包括合成橡膠、信越化學、東京應化、住友化學，大概占據全球市場份額的70%，在EUV、ArF、KrF市場的占比更大，依次是99.9%、93%、80%。

對外高度依賴具有卡脖子風險，韓國對日本光刻膠的依賴也很高，2019年日本通過對韓國實施貿易禁運，包括光刻膠在內的電子材料，韓國半導體產業受到嚴重打擊，今年6月中旬也有消息稱，受疫情和地震影響，日本越信化學光刻膠制造能力受限制，該公司表示不打算再向中國出售KrF光刻膠。

可以看到，如果在高端光刻膠方面沒有一定的自主供應能力，當國外廠商因為任何原因選擇停止供應的時候，國內的半導體產業發展無疑會受到影響。

KrF，ArF光刻膠最新進展

目前國內在半導體用KrF（248nm），ArF（193nm）光刻膠領域積極投入研發量產的企業主要有上海新陽、南大光電和晶瑞股份。

上海新陽在公司2020年年度報告中透露，公司半導體用高端光刻膠產品正在開發中，包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠，存儲芯片制造用的KrF厚膜光刻膠。

同時公司采購的用于I線光刻膠研發的Nikon-i14型光刻機，用于KrF光刻膠研發的Nikon-205C型光刻機，用于ArF干法光刻膠研發的ASML-1400型光刻機，用于ArF浸沒式光刻膠研發的ASML XT 1900 Gi型光刻機已全部到廠。

2020年11月上海新陽曾發布定增公告，擬募集資金不超過14.5億元，用于半導體制造用ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產品及配套試劑。

該公司表示，項目預計KrF厚膜光刻膠2021年實現少量銷售，2022年實現量產，ArF（干式）光刻膠2022實現少量銷售，2023年實現量產。此次上海新陽KrF厚膜光刻膠取得第一筆訂單，可以看到公司的項目正在穩步推進，預計明年會按規劃實現量產。

南大光電的重點集中在ArF光刻膠產品上，并且取得不錯進展，今年6月1日南大光電發布公告稱，子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠產品在邏輯芯片制造企業55nm技術節點的產品上取得認證突破。

去年12月其ArF光刻膠產品也曾在一家存儲芯片制造企業的50nm閃存平臺上通過認證。南大光電表示，公司與認證通過客戶還在就ArF 光刻膠產品的銷售和服務在協商中。

晶瑞股份在g線光刻膠產品上規模供應數十年，i線光刻膠近年也向中芯國際、合肥長鑫、士蘭微、揚杰科技等企業供應。晶瑞股份6月22日對外表示，公司的KrF光刻膠完成中試建成了中試示范線，目前已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率，測試通過后即可進入量產階段。

晶瑞股份ArF高端光刻膠研發工作已正式啟動，今年年初曾購入一臺ASML光刻機，為ASML XT 1900 Gi 型ArF浸入式光刻機，可用于研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠，該設備于2021年1月 19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室。

小結

中國市場是全球最大的光刻膠市場，根據SEMI數據顯示，2019年半導體光刻膠銷售額為17.7億美元，中國市場規模占比達到32%，美洲、亞太（除中國和日本）、歐洲、日本占比依次為21%、20%、9%、9%。

根據美國半導體產業協會數據，其中ArF干式和浸沒式光刻膠市場份額占比42%，KrF光刻膠占比22%，g線/i線占比24%。可見ArF、KrF光刻膠有很大的市場，尤其當前國家大力支持發展半導體，對半導體材料的支持力度也很大，未來有很大的增長空間。

可見上海新陽、南大光電、晶瑞股份等廠商在ArF、KrF光刻膠上積極發力，不僅有助于填補我國在高端光刻膠領域的空白，打破國外巨頭的壟斷，同時對于這幾家廠商來說，作為國內的先入局者，未來能夠把握的市場機會也會更大。