沒(méi)有任何一個(gè)國(guó)家的人比中國(guó)人更想造出頂級(jí)光刻機(jī)。網(wǎng)友甚至表示,只要造出光刻機(jī),無(wú)論一個(gè)人做錯(cuò)了什么都可以原諒。
因?yàn)楣饪虣C(jī),這種高精密芯片制造設(shè)備,是當(dāng)前中國(guó)半導(dǎo)體的軟肋。2002年,光刻機(jī)就被列入國(guó)家863重大科技攻關(guān)計(jì)劃,
造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)?
雖然制造光刻機(jī)涉及的產(chǎn)業(yè)體系非常龐大,但簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),主要是兩點(diǎn)。
首先,制造光刻機(jī)需要數(shù)萬(wàn)個(gè)零部件。
一臺(tái)光刻機(jī)含有80000個(gè)零件,最先進(jìn)的極紫外光EUV光刻機(jī)所需的零部件更是超過(guò)10萬(wàn)個(gè)。整機(jī)光刻機(jī)包含曝光系統(tǒng)(照明系統(tǒng)和投影物鏡)、工件臺(tái)掩模臺(tái)系統(tǒng)、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、整機(jī)軟件系統(tǒng)等。
所需要的核心部件如下:
制圖:華秋商城
而在這些核心部件中,光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源和工件臺(tái)又是核心中的核心。
高數(shù)值孔徑的鏡頭決定了光刻機(jī)的分辨率以及套值誤差能力,重要性不言而喻。EUV極紫外光刻機(jī)唯一可使用的鏡頭由卡爾蔡司生產(chǎn)。
光源波長(zhǎng)決定了光刻機(jī)的工藝能力。光刻機(jī)需要體積小、功率高而穩(wěn)定的光源。如EUV光刻機(jī)所采用的波長(zhǎng)13.5nm的極紫外光,光學(xué)系統(tǒng)極為復(fù)雜。
光刻機(jī)工件臺(tái)系其中承載硅片完成光刻過(guò)程中一系列超精密動(dòng)作的運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)(包括上下片、對(duì)準(zhǔn)、晶圓面型測(cè)量和曝光等),將影響光刻機(jī)的精度和產(chǎn)效,綜合技術(shù)難度較高。
其次,需要精準(zhǔn)的組裝技術(shù)。
集齊所需的零部件后,需要精準(zhǔn)的組裝技術(shù),把零部件組裝起來(lái),變成光刻機(jī)。ASML本質(zhì)上更像是一家組裝企業(yè),畢竟其光刻機(jī)90%的部件是全球采購(gòu)的,來(lái)自全球不同國(guó)家的超過(guò)5000家供應(yīng)商。ASML能夠打敗尼康和佳能,稱霸全球光刻機(jī)市場(chǎng),離不開其超強(qiáng)組裝技術(shù)。
而且ASML是一個(gè)知識(shí)密集型企業(yè),擁有大量的受保護(hù)的專利和知識(shí)產(chǎn)權(quán)。他們的工程師非常擅長(zhǎng)系統(tǒng)集成方面的知識(shí),了解如何將這些制作光刻機(jī)所需要的元件集成在一起,也知道如何組裝一個(gè)光刻機(jī)。ASML已經(jīng)掌握了超過(guò)一半制造光刻機(jī)的核心技術(shù)。
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原文標(biāo)題:攻關(guān)20年,中國(guó)光刻機(jī)取得了哪些重大突破?
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