9月15日，中微半導體設備（上海）有限公司創始人、董事長、總經理尹志堯在某活動中探討如何打造高質量、有競爭力的半導體設備公司時，表示目前半導體公司的設備主要可以分為四大類，光刻機、等離子體刻蝕機、薄膜設備、測試設備。

以刻蝕機設備為例，等離子體刻蝕設備市場成長迅速，目前年市場規模超過120億美元。并且等離子體刻蝕設備已經工廠中投入最大的部分，已經占到工廠設備成本的30%以上。

尹志堯提到一定要將更大力度推動和發展半導體微觀加工設備產業提到日程上來，半導體設備公司不僅是集成電路制造的供應商和產業鏈，也是集成電路制造的最核心部分。而大國博弈在經高科技戰線上，集中在半導體設備和關鍵零部件的限制上。



當前中微半導體開發的四類設備均達到了國際領先水平，如CCP電容性刻蝕機、ICP電感型刻蝕機、深硅刻蝕機、MOCVCD。

其中，中微開發的第三代CCP高能等離子體刻蝕機，已經從過去的20:1發展到如今的60:1極高深寬比細孔。并且中微CCP刻蝕機在臺灣領先的晶圓廠和存儲廠，已經占據三成市場份額。中微的MOCVD設備在國際氮化鎵基MOCVD市場占有率已在2018年第四季度已經達到了70%以上。

尹志堯表示，十年來中國有54個公司和研究所曾宣布開發MOCVD設備，但目前只有中微一家成功，并且已經實現穩定的量產。多年來中微的MOCVD設備不斷提高藍綠光LED波長均勻性，目前LED波長片內均勻性已經做到0.71nm。

如何將中微半導體做大做強，尹志堯表示中微以“四個十大”為中心，總結17年的經驗與教訓，繼續發展科創企業的管理章法，其中包括：中微產品開發的十大原則；中微戰略和商務的十大原則；中微運營管理的十大原則；中微精神文化的十大原則。

在開發產品上，尹志堯表示不要老跟著外國人的設計，這樣很難做出自己獨有的產品，因此中微提出了甚高頻去耦合反應離子體刻蝕，讓高頻、低頻都在下電極，當前該技術已經具備一定優勢。

此外，中微公司還開發了CCP單臺機和雙臺機，ICP單臺機和雙臺機，可以覆蓋90%的刻蝕應用，不僅在成本上降低30%，效率上也提升了50%。



戰略上，中微將通過三維成長（集成電路設備、泛半導體設備、非半導體設備），計劃在未來10到15年成為國際一流的微觀加工設備公司。

公司運營管理上，中微通過運營KPI管理不斷提升質量管理水平。截至2021年6月份，中微已經申請了1883個專利，并已獲得1115個專利。

尹志堯表示，盡管中微在知識產權上已經做得很全面，但也受到多次美國公司對中微發起的專利訴訟，有三次是美國公司對中微提起訴訟，一次是中微對美國公司發起的訴訟。值得注意的是，在專利訴訟中，兩次獲得了完全勝利，另外兩次也在較大優勢下達成和解。

中微公司在等離子體刻蝕機的技術優勢，也讓美國在2015年取消了對中國的出口控制，而中微的相關產品出口環境也變得極為寬松。



值得注意的是，中微實施了員工期權激勵和全員持股的模式，認為這是高科技公司發展的生命線，也是社會主義集體所有制的核心。尹志堯認為，企業價格由投入的股本金帶來和勞動創造的價值兩部分組成，但公司80%的市值由勞動力創造。

不忘初心，就是回到“資本論”，就是要解決剩余價格的合理分配問題。通過期權和股權將員工長期利益和企業綁定，使更多員工參加公司，使員工積極為公司工作，全員持股是中微賴以生存和發展的生命線。



尹志堯提到，自己僅占公司1%的股份，但這并不意味著就無法將公司做好。讓公司做大做強，要做到強群的總能量最大化和凈能量最大化，總能量最大化即使所有階層和所有部門人們的積極性群都發揮出來，凈能量最大化即怎樣使各個階層和各個部門的能量不會在內耗中消失。

最后，尹志堯表示，一家公司從初創公司做到成功，公司的文化和作風是主要應隨，要建立一直領先的百年老店，初創時期，首先要有過硬的技術產品，到了大公司時期要有足夠的運營能力，做到領頭公司，則需要看公司的文化作風。