為期三天的全球半導體行業盛會SEMICON China 2025于今日圓滿落幕，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱：中微公司）精彩亮相展會及同期活動，與全球半導體產業的領軍企業共襄盛會。

創新成果備受矚目

展會期間，中微公司宣布了在等離子體刻蝕技術領域實現的重大突破—— ICP雙反應臺刻蝕機Primo Twin-Star 反應臺之間的刻蝕精度已達到0.2A（亞埃級）。該精度約等于硅原子直徑2.5埃的十分之一，是人類頭發絲平均直徑100微米的500萬分之一。此外，中微公司還發布了首款晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona，該產品的發布標志著中微公司向著刻蝕關鍵工藝全面覆蓋的目標再進一步。

中微公司展臺匯聚了超高人氣，憑借強大的技術實力和創新成果，再次成為備受矚目的焦點，吸引了眾多行業專家、合作伙伴以及業內外觀眾前來參觀。觀眾通過融合海報、設備模型、視頻動畫與現場交流等多種形式，全方了解了公司在刻蝕、薄膜、MOCVD設備等微觀加工高端設備領域的卓越技術和雄厚研發實力。

“可持續發展卓越貢獻獎”榮譽加冕

作為行業領軍企業，中微公司在為客戶和市場提供高科技產品和服務的同時，積極擁抱ESG理念，深化ESG實踐，切實履行企業社會責任，完善公司治理機制，不斷推動企業可持續發展。

在3月26日晚舉辦的2025 SEMICON China VIP Gala 晚宴上，中微公司憑借在ESG實踐領域的優異成績，榮獲主辦方頒發的可持續發展卓越貢獻獎，中微公司董事長兼總經理尹志堯博士受邀上臺領獎。

技術論壇深度探討

展會同期，中微公司舉辦了技術論壇，與眾多行業精英、技術專家齊聚一堂，共同探討半導體產業的最新技術趨勢、市場動態以及未來發展方向。

中微公司的技術專家們在論壇上帶來了精彩的分享，深入解讀了公司在刻蝕、薄膜、MOCVD設備以及新產品等方面的創新成果。他們不僅展示了中微公司在半導體設備領域的深厚技術積累，還與論壇嘉賓進行了深入的交流與互動，共同探討了如何通過技術創新共同推動半導體產業的發展。

共話ESG理念及實踐經驗

3月28日，中微公司副總裁、QEHS負責人沈曉敏先生代表公司出席了第三屆“SEMI SCC可持續發展與ESG高峰論壇”并發表主旨演講，分享了中微公司ESG理念及實踐經驗。他表示，中微公司堅持綠色發展，承諾將于2035年實現自身運營碳中和，從產品創新、環境保護、社會責任和公司治理等四個方面不斷深化ESG實踐。目前公司在上海、南昌等生產研發基地均實現了綠電供應，2024年綠電消費比例約為24%，切實推動了公司的低碳運營實踐。他強調，中微公司將攜手產業鏈各方持續探索綠色解決方案，協同創新，為社會創造可持續價值，踐行“讓人們的生活因我們的努力奉獻而更美好”的愿景。

未來，中微公司將緊跟先進制程發展的最前沿，堅持三維立體發展戰略，通過有機成長和外延擴展，踐行科創企業的“五個十大”，實現高速、穩定、健康和安全的高質量發展，盡早在規模和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司！

關于中微半導體設備（上海）股份有限公司

中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細分刻蝕設備已可以覆蓋大多數刻蝕的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設備，并取得了可喜的進步。中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客戶生產線上投入量產，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。此外，中微公司也在布局光學和電子束量檢測設備，并開發多種泛半導體微觀加工設備。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。在美國TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半導體設備客戶滿意度調查中，中微公司三次獲得總評分第三，薄膜設備三次被評為第一。