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光刻機的曝光方式

姚小熊27 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:佚名 ? 2022-01-03 17:31 ? 次閱讀

光刻機的曝光方式主要有三種,分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。

接觸式曝光就是將掩膜與還沒加工基片的光膠層直接接觸并進(jìn)行的曝光;

非接觸式曝光是指掩膜和基片的光膠層不直接接觸來實現(xiàn)圖形復(fù)印的曝光;

投影式曝光是指掩膜與基片不直接接觸,但用投影儀分方式來實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。

審核編輯:姚遠(yuǎn)香

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