中國芯片再度獲得沖破,紫光國芯攻克12nm芯片制造工藝,這將代表我國現存技術再次獲得了晉升。
12nm芯片制造工藝是在14nm工藝基礎上進行改良,和其14nm工藝進行對比的話,12nm芯片對晶體管進行的改造,使其減小尺寸可以達到降低功耗和錯誤率的目的。此次在存儲控制器上的突破,是第一個融入12nm制程的GDDR6存儲物理接口,有利于閃存平臺的搭建,也大大提高了數據上的傳輸,能優化帶寬高性能的要求。
此次在存儲控制器上的技術突破或將意味著中國或許能夠在GDDR6領域擁有自己的IP主控芯片,這對我國半導體行業也有著重大意義。
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審核編輯:郭婷
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