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垂直腔面發射激光器制作流程

芯片工藝技術 ? 來源:芯片工藝技術 ? 作者:芯片工藝技術 ? 2022-07-07 14:47 ? 次閱讀

但凡說到激光器,人們必須提及Vcsel,也就是垂直腔面發射激光器:Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser。

2017年蘋果公司iPhone X采用vcsel作為3D感應技術,用于Proximity sensor和 Face ID模塊,徹底把Vcsel炒熱了。之后發現Vcsel在激光雷達LiDAR和氣體檢測等方面有很大的應用市場。市場預期2023年市場還會擴大10倍以上。同時隨著光通訊數據中心的建設,Vcsel激光器作為980nm等短波長激光器的使用量也會激增。

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Vcsel的應用場景

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市場預期

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全球主要Vcsel供應商

2. Vcsel的結構和原理

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如上圖,我們都知道LD作為側發光的激光器,光源是從側邊出光面發射,而且需要在AR面鍍增透膜、HR面做高反膜。而Vcsel的光是從P型或N型表面直接發射出來,有點像紅光LED的結構。

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芯片內部結構

Vcsel的光腔是采用有源區上方和下方的布拉格在外延工序沉淀而成。

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TO封裝后的Vcsel外形

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我們以上圖的Vcsel的制備過程為例說明:

1)通過MBE或Mocvd在砷化鎵的基板上,交替生長GaAs和AlAs,交替生長層最終形成布拉格反射鏡。GaAs和AlAs有這顯著不同的折射率,但是他們二者的晶格常數基本相同,因此可以交替生長很多層而不產生位錯,這也是為什么可以做出高反射率的鏡面效果。

2) 接著生長幾個量子阱有源區。

3)在上面生長一組P摻雜的GaAs/AlAs。

4)刻蝕出一個圓環形區域,從而定義出區域中直徑幾微米的激光器。

5)通常金屬接觸位于頂部環繞器件環上,通常要在頂部反射鏡堆疊中,通過氧化暴露的AlAs層,使它形成氧化物不導電,從而形成電流光闌,以便漏斗電流僅流向器件的中心。

6)P型布拉格反射鏡。

7)鍍上面P電極

8)減薄到100um,鍍N電極鍺鎳金。

3. Vcsel優缺點

優點:

1)不需要單獨做反射鏡,工藝簡單。

2)閾值電流僅為0.1mA,器件體積小,電容小,適用于10Gbit/s的高速調制系統。

3)出光面是圓形,發射出來的光也是圓形,且垂直腔的高度也只有幾微米,縱模只有一個,而且當腔體直徑小于8um時,只有一個橫模存在。十分方便出光耦合光線等。

4)溫度特性好,無需制冷。

舉例:德國Mergeoptics公司生產的850nm Vcsel激光器,譜寬0.2nm,平均發射功率-2.17dBm,消光比6.36dB,相對強度噪音-128dB/Hz。

缺點:

輸出功率低,腔長短。 長波長的外延很難做,比如光通訊用的1310nm、1550nm。

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GaAs的vcsel有一個AlAs氧化工藝,可以用來形成側向電流限制,inp系的材料沒有這個工藝,側面電流限制做得不太好。

審核編輯 :李倩

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原文標題:Vcsel芯片和制作流程

文章出處:【微信號:dingg6602,微信公眾號:芯片工藝技術】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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