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duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

璟琰乀 ? 來源:php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板日報、 ? 作者:php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板 ? 2022-07-10 14:53 ? 次閱讀

目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢?

duv光刻機和euv光刻機區(qū)別

1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。

2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內(nèi)部必須是真空操作。

以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了,現(xiàn)在基本都是euv光刻機。

文章綜合php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板日報、百度百科

編輯:何安

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