來源：Park原子力顯微鏡公司

作為一家有超過30年制造史的原子力顯微鏡制造廠商，Park原子力顯微鏡公司現(xiàn)推出新一代高效、安全的光罩修復設備——Park NX-Mask。

Park NX-Mask旨在為您提供優(yōu)異的解決方案，其強大的兼容性可適用于處理EUV光罩的dual pod。從自動缺陷檢測到缺陷修復再到修復驗證的一站式解決方案更是以前所未有的高修復效率極大地提高了生產(chǎn)效率，助力您的研發(fā)和生產(chǎn)工作。

“Park NX-Mask配有最先進的原子力顯微鏡光罩缺陷修復系統(tǒng)，適用于高端EUV半導體制造以及光罩修復fab。它也是目前半導體市場上性價比最高的機臺。”Park 原子力顯微鏡產(chǎn)品營銷總監(jiān) Richard Lee如是介紹。

Park NX-Mask的核心優(yōu)勢是以亞納米級邊緣定位精度進行缺陷修復、雜質顆粒去除。NX-Mask在高效修復光罩的同時，不會引入額外的樣品損傷和顆粒污染。

AFM Based EUV Mask Repair Equipment, NX-Mask 基于AFM的EUV光罩修復設備

Park NX-Mask集自動缺陷檢測和光罩修復為一體，可實現(xiàn)高吞吐量、高分辨率，并可避免傳統(tǒng)方法帶來的破壞性風險。此外，Park NX-Mask能為表面粗糙度和圖案臺階高度提供全自動的原子力顯微鏡納米計量。在非接觸掃描模式下，它以亞埃垂直精度完美地做到了這一點。

關于Park原子力顯微鏡公司：

作為當今發(fā)展最快、世界一流的原子力顯微鏡系統(tǒng)制造商，Park原子力顯微鏡(Park Systems)一直與時俱進，竭誠為化學、材料、物理、生命科學、半導體和數(shù)據(jù)存儲等行業(yè)的研究員及工程師提供各系列產(chǎn)品。“真誠協(xié)助科學家和工程師解決世界上最緊迫的難題，源源不竭推動科學發(fā)現(xiàn)，堅持拓展工程創(chuàng)新的邊界，不斷實現(xiàn)納米級的進步”始終是Park原子力顯微鏡的使命。發(fā)展至今，Park Systems 的客戶已涵蓋了多數(shù)世界領先級的半導體公司和亞洲、歐洲和美洲的國家研究型大學。 Park原子力顯微鏡(Park Systems)是韓國證券交易所 (KOSDAQ) 的上市公司，其總部位于韓國水源，地區(qū)總部位于美國、墨西哥、德國、法國、英國、大中華區(qū)、日本、新加坡和印度。

原文來自：韓國帕克股份有限公司

審核編輯 黃昊宇