廈門云天Fine Pitch光刻工藝突破2um L/S
來源：云天半導(dǎo)體
廈門云天半導(dǎo)體繼九月初8&12吋 “晶圓級封裝與無源器件生產(chǎn)線”正式通線后，經(jīng)過團隊的不懈努力， 8英寸晶圓Fine Pitch光刻工藝開發(fā)終破2/2um L/S大關(guān)；
以下為部分工藝條件及成果展示：
膠厚均勻性 3.4%
CD開口均勻性 3%
在Test Vehicle光罩下，測試了長線條&短線條，結(jié)果不論是在正性光阻還是負(fù)性光阻下， 2um的L/S下的線條都是完整而清晰的，而且沒有任何顯影不潔或過顯的外觀異常；
2um 短線條（光刻后）
2um長線條-負(fù)膠（光刻后）
2um長線條-正膠（光刻后）
SEM切片效果圖如下，膠厚：3.308um，CD上開口：2.272um，CD下開口：1.716um，側(cè)壁垂直度約85.2°；
2um孔徑SEM
2um長線條經(jīng)過電鍍及種子層刻蝕后，線寬及線距均在工藝管控范圍內(nèi)，未出現(xiàn)線路Peeling及斷短路等外觀異常；
2um長線條-負(fù)膠（電鍍后）
2um長線條-負(fù)膠（PVD刻蝕后）
廈門云天半導(dǎo)體目前量產(chǎn)化最小L/S為10/10um，工程樣品能力最小L/S為7/7um，2/2um的L/S工藝的成功開發(fā)是二期通線后的一次重大突破。目前2/2um的L/S工藝還需進(jìn)一步的開拓驗證，為后續(xù)量產(chǎn)化的導(dǎo)入做足準(zhǔn)備。廈門云天半導(dǎo)體將持續(xù)追求“創(chuàng)新、卓越、合作、奮斗”的精神，不斷挑戰(zhàn)極限、勇攀高峰！
審核編輯黃昊宇
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
324瀏覽量
30248
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜
晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究
隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質(zhì)量。本文將圍繞著晶圓
光刻掩膜技術(shù)介紹
?? 光刻掩膜簡介 ?? ? 光刻掩膜（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常簡稱“mask”，是半導(dǎo)體制造過程中用于圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，對于光刻工藝的重要性不弱于
1um以下的光刻深度,凹槽深度和寬度測量
一、白光干涉儀測量原理
白光干涉儀利用白光干涉原理，通過測量反射光與參考光之間的光程差來精確獲取待測表面的高度信息。其測量精度可達(dá)到納米級別，非常適合用于測量1um以下的光刻深度、凹槽深度和寬度
芯片濕法蝕刻工藝
芯片濕法蝕刻工藝是一種在半導(dǎo)體制造中使用的關(guān)鍵技術(shù)，主要用于通過化學(xué)溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 濕法蝕刻是一種將硅片浸入特定的化學(xué)溶液中以去除不需要材料的工藝，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件如芯片
【「大話芯片制造」閱讀體驗】+芯片制造過程工藝面面觀
，光刻工藝，蝕刻工藝，離子注入工藝，化學(xué)機械拋光，清洗工藝，晶圓檢驗工藝。
后道工序包括組裝工藝
發(fā)表于 12-16 23:35
簡述光刻工藝的三個主要步驟
“ 光刻作為半導(dǎo)體中的關(guān)鍵工藝，其中包括3大步驟的工藝：涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常，整個光刻工藝都需要返工處理，因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關(guān)鍵”
光刻工藝中分辨率增強技術(shù)詳解
分辨率增強及技術(shù)(Resolution Enhancement Technique, RET)實際上就是根據(jù)已有的掩膜版設(shè)計圖形，通過模擬計算確定最佳光照條件，以實現(xiàn)最大共同工藝窗口(Common Process Window)，這部分工作一般是在新光刻工藝研發(fā)的早期進(jìn)行
光刻掩膜和光刻模具的關(guān)系
光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的圖形母版。它由不透明的遮光薄膜在
光刻工藝的基本知識
在萬物互聯(lián)，AI革命興起的今天，半導(dǎo)體芯片已成為推動現(xiàn)代社會進(jìn)步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù)，作為先進(jìn)制造中最為精細(xì)和關(guān)鍵的工藝，不管是半導(dǎo)體芯片、MEMS器件，還是微納光學(xué)元件都離不開光刻工藝的參與，其重要性不
光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性，必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求，有許多
光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下，通過適當(dāng)?shù)?/div>
![的頭像]()
發(fā)表于 07-09 16:06
?786次閱讀
三星擬應(yīng)用金屬氧化物抗蝕劑（MOR）于DRAM EUV光刻工藝
據(jù)悉，MOR作為被廣泛看好的下一代光刻膠（PR）解決方案，有望替代現(xiàn)今先進(jìn)芯片光刻工藝中的化學(xué)放大膠（CAR）。然而，CAR在提升PR分辨率、增強抗蝕能力及降低線邊緣粗糙度上的表現(xiàn)已無法滿足當(dāng)前晶圓制造的產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。
光刻工藝流程示意圖：半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)
光刻材料一般特指光刻膠，又稱為光刻抗蝕劑，是光刻技術(shù)中的最關(guān)鍵的功能材料。這類材料具有光（包括可見光、紫外光、電子束等）反應(yīng)特性，經(jīng)過光化學(xué)反應(yīng)后，其溶解性發(fā)生顯著變化。
發(fā)表于 03-31 16:27
?2997次閱讀
一文解析半導(dǎo)體設(shè)計電路的“光刻工藝”
利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
發(fā)表于 03-06 14:28
?1015次閱讀
- 設(shè)計技術(shù)
- 可編程邏輯
- 電源/新能源
- MEMS/傳感技術(shù)
- 測量儀表
- 嵌入式技術(shù)
- 制造/封裝
- 模擬技術(shù)
- RF/無線
- 接口/總線/驅(qū)動
- 處理器/DSP
- EDA/IC設(shè)計
- 存儲技術(shù)
- 光電顯示
- EMC/EMI設(shè)計
- 連接器
- 行業(yè)應(yīng)用
- LEDs
- 汽車電子
- 音視頻及家電
- 通信網(wǎng)絡(luò)
- 醫(yī)療電子
- 人工智能
- 虛擬現(xiàn)實
- 可穿戴設(shè)備
- 機器人
- 安全設(shè)備/系統(tǒng)
- 軍用/航空電子
- 移動通信
- 工業(yè)控制
- 便攜設(shè)備
- 觸控感測
- 物聯(lián)網(wǎng)
- 智能電網(wǎng)
- 區(qū)塊鏈
- 新科技
- 特色內(nèi)容
- 專欄推薦
- 學(xué)院
- 設(shè)計資源
- 設(shè)計技術(shù)
- 電子百科
- 電子視頻
- 元器件知識
- 工具箱
- VIP會員
- 最新技術(shù)文章
- 供應(yīng)鏈服務(wù)
- 硬件開發(fā)
- 華秋電路
- 華秋商城
- 華秋智造
- nextPCB
- BOM配單
- 媒體服務(wù)
- 網(wǎng)站廣告
- 在線研討會
- 活動策劃
- 新聞發(fā)布
- 新品發(fā)布
- 小測驗
- 設(shè)計大賽
- 華秋
- 關(guān)于我們
- 投資關(guān)系
- 新聞動態(tài)
- 加入我們
- 聯(lián)系我們
- 舉報投訴
- 社交網(wǎng)絡(luò)
- 微博
- 移動端
- 發(fā)燒友APP
- 硬聲APP
- WAP
- 聯(lián)系我們
- 廣告合作
- 王婉珠：wangwanzhu@elecfans.com
- 內(nèi)容合作
- 黃晶晶：huangjingjing@elecfans.com
- 內(nèi)容合作（海外）
- 張迎輝：mikezhang@elecfans.com
- 供應(yīng)鏈服務(wù) PCB/IC/PCBA
- 江良華：lanhu@huaqiu.com
- 投資合作
- 曾海銀：zenghaiyin@huaqiu.com
- 社區(qū)合作
- 劉勇：liuyong@huaqiu.com
-
關(guān)注我們的微信
-
下載發(fā)燒友APP
-
電子發(fā)燒友觀察
版權(quán)所有 ? 湖南華秋數(shù)字科技有限公司
長沙市望城經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)航空路6號手機智能終端產(chǎn)業(yè)園2號廠房3層（0731-88081133）
電子發(fā)燒友 （電路圖） 湘公網(wǎng)安備43011202000918
工商網(wǎng)監(jiān)
湘ICP備2023018690號-1
評論