電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)從消費(fèi)電子電源類產(chǎn)品開(kāi)始,GaN拉開(kāi)了巨大市場(chǎng)發(fā)展空間的序幕,并逐漸往數(shù)據(jù)中心、汽車OBC甚至主驅(qū)逆變器等領(lǐng)域滲透。主流應(yīng)用的650V GaN HEMT在充電頭、以及數(shù)據(jù)中心電源上已經(jīng)開(kāi)始被廣泛應(yīng)用。
而隨著數(shù)據(jù)中心單機(jī)架的功率不斷提高,數(shù)據(jù)中心的次級(jí)端,機(jī)架的配電系統(tǒng)設(shè)計(jì)電壓從12V往48V升級(jí)。與此同時(shí),數(shù)據(jù)中心配電系統(tǒng)的DC-DC中,低壓的GaN器件,比如40V和100V規(guī)格的GaN在這些系統(tǒng)中越來(lái)越受到重視。
今年,OPPO在智能手機(jī)端也首次將低壓GaN器件應(yīng)用到手機(jī)內(nèi)部,用于快速充電的電路中。按照OPPO的說(shuō)法,一顆GaN開(kāi)關(guān)管可以代替以往方案中使用的兩顆硅基MOSFET,能夠減少體積,并由于GaN器件阻抗相比硅器件更低,在熱管理上也有更好的表現(xiàn),降低充電路徑上的熱量消耗,降低充電溫升,提升充電性能。
所以,低壓GaN器件有沒(méi)有機(jī)會(huì)取代更多硅基器件,比如在消費(fèi)電子產(chǎn)品內(nèi)的負(fù)載點(diǎn)POL轉(zhuǎn)換器中替代更多低壓的硅基器件?
如果從GaN器件的角度來(lái)看,目前市面上有多家廠商都推出了100V、40V甚至更低電壓的GaN器件。比如英諾賽科、EPC、GaNSystems等,其中EPC甚至有15V的GaN產(chǎn)品供應(yīng)。
EPC在2016年推出了一款型號(hào)為EPC2040的GaN功率晶體管,擊穿電壓為15V,在5V驅(qū)動(dòng)電壓下導(dǎo)通電阻為30mΩ,工作溫度支持-40℃~150℃,可以應(yīng)用于自動(dòng)駕駛激光雷達(dá)等場(chǎng)景。
今年5月國(guó)內(nèi)GaN器件龍頭英諾賽科在IEEE功率半導(dǎo)體器件國(guó)際研討會(huì)(ISPSD)上展示了其15V GaN HEMT的研究進(jìn)展,據(jù)介紹,他們這款15V GaN HEMT在5 V V in / 1.5~4 V V out的轉(zhuǎn)換比下,采用半橋配置的GaN HEMTs制作的降壓轉(zhuǎn)換器在10 MHz下的效率超過(guò)90%。當(dāng)開(kāi)關(guān)頻率增加到30 MHz時(shí),轉(zhuǎn)換器仍然保持80%以上的效率。
然而現(xiàn)實(shí)可能沒(méi)有想象中美好,英諾賽科在會(huì)議上還提到,盡管業(yè)界在低壓GaN HEMT方面做出了巨大努力,電源開(kāi)關(guān)通常已經(jīng)低于40V,努力向消費(fèi)電子產(chǎn)品的應(yīng)用推進(jìn)。但與硅器件相比,低壓GaN HEMT在消費(fèi)電子產(chǎn)品上的廣泛應(yīng)用還面臨很大挑戰(zhàn)。
在技術(shù)層面上,隨著GaN器件的尺寸縮小,接觸電阻和寄生電容的比例會(huì)大幅上升,閾值電壓下降,導(dǎo)致導(dǎo)通錯(cuò)誤的風(fēng)險(xiǎn)提高,關(guān)斷狀態(tài)泄露電流增加,以致于靜態(tài)損耗和動(dòng)態(tài)損耗不穩(wěn)定。英諾賽科認(rèn)為,這些問(wèn)題都影響了GaN HEMT在小體積的消費(fèi)電子產(chǎn)品上廣泛應(yīng)用的可能。
另一方面,有業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為,在100V以下的低壓領(lǐng)域,GaN相比硅有開(kāi)關(guān)損耗和功率密度的優(yōu)勢(shì),但目前低壓的硅基器件已經(jīng)做得足夠好,成本上的巨大優(yōu)勢(shì)是GaN難以逼近的。除非是一些特殊的應(yīng)用中,對(duì)開(kāi)關(guān)頻率要求較高,比如前面提到OPPO在手機(jī)快充電路中用一顆GaN開(kāi)關(guān)管替代以往兩顆硅基MOSFET的操作。
無(wú)論如何,業(yè)界對(duì)低壓GaN器件的研究還在繼續(xù),不少研究團(tuán)隊(duì)都在這個(gè)方向努力,比如德國(guó)Fraunhofer IAF研究所的科學(xué)家在PCIM2021上發(fā)表過(guò)關(guān)于緊湊型低壓GaN HEMT設(shè)計(jì)的論文。或許隨著成本的持續(xù)降低,以及快充等需求的持續(xù)升級(jí),低壓GaN器件會(huì)有取代硅的一天。
而隨著數(shù)據(jù)中心單機(jī)架的功率不斷提高,數(shù)據(jù)中心的次級(jí)端,機(jī)架的配電系統(tǒng)設(shè)計(jì)電壓從12V往48V升級(jí)。與此同時(shí),數(shù)據(jù)中心配電系統(tǒng)的DC-DC中,低壓的GaN器件,比如40V和100V規(guī)格的GaN在這些系統(tǒng)中越來(lái)越受到重視。
今年,OPPO在智能手機(jī)端也首次將低壓GaN器件應(yīng)用到手機(jī)內(nèi)部,用于快速充電的電路中。按照OPPO的說(shuō)法,一顆GaN開(kāi)關(guān)管可以代替以往方案中使用的兩顆硅基MOSFET,能夠減少體積,并由于GaN器件阻抗相比硅器件更低,在熱管理上也有更好的表現(xiàn),降低充電路徑上的熱量消耗,降低充電溫升,提升充電性能。
所以,低壓GaN器件有沒(méi)有機(jī)會(huì)取代更多硅基器件,比如在消費(fèi)電子產(chǎn)品內(nèi)的負(fù)載點(diǎn)POL轉(zhuǎn)換器中替代更多低壓的硅基器件?
如果從GaN器件的角度來(lái)看,目前市面上有多家廠商都推出了100V、40V甚至更低電壓的GaN器件。比如英諾賽科、EPC、GaNSystems等,其中EPC甚至有15V的GaN產(chǎn)品供應(yīng)。
EPC在2016年推出了一款型號(hào)為EPC2040的GaN功率晶體管,擊穿電壓為15V,在5V驅(qū)動(dòng)電壓下導(dǎo)通電阻為30mΩ,工作溫度支持-40℃~150℃,可以應(yīng)用于自動(dòng)駕駛激光雷達(dá)等場(chǎng)景。
今年5月國(guó)內(nèi)GaN器件龍頭英諾賽科在IEEE功率半導(dǎo)體器件國(guó)際研討會(huì)(ISPSD)上展示了其15V GaN HEMT的研究進(jìn)展,據(jù)介紹,他們這款15V GaN HEMT在5 V V in / 1.5~4 V V out的轉(zhuǎn)換比下,采用半橋配置的GaN HEMTs制作的降壓轉(zhuǎn)換器在10 MHz下的效率超過(guò)90%。當(dāng)開(kāi)關(guān)頻率增加到30 MHz時(shí),轉(zhuǎn)換器仍然保持80%以上的效率。
然而現(xiàn)實(shí)可能沒(méi)有想象中美好,英諾賽科在會(huì)議上還提到,盡管業(yè)界在低壓GaN HEMT方面做出了巨大努力,電源開(kāi)關(guān)通常已經(jīng)低于40V,努力向消費(fèi)電子產(chǎn)品的應(yīng)用推進(jìn)。但與硅器件相比,低壓GaN HEMT在消費(fèi)電子產(chǎn)品上的廣泛應(yīng)用還面臨很大挑戰(zhàn)。
在技術(shù)層面上,隨著GaN器件的尺寸縮小,接觸電阻和寄生電容的比例會(huì)大幅上升,閾值電壓下降,導(dǎo)致導(dǎo)通錯(cuò)誤的風(fēng)險(xiǎn)提高,關(guān)斷狀態(tài)泄露電流增加,以致于靜態(tài)損耗和動(dòng)態(tài)損耗不穩(wěn)定。英諾賽科認(rèn)為,這些問(wèn)題都影響了GaN HEMT在小體積的消費(fèi)電子產(chǎn)品上廣泛應(yīng)用的可能。
另一方面,有業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為,在100V以下的低壓領(lǐng)域,GaN相比硅有開(kāi)關(guān)損耗和功率密度的優(yōu)勢(shì),但目前低壓的硅基器件已經(jīng)做得足夠好,成本上的巨大優(yōu)勢(shì)是GaN難以逼近的。除非是一些特殊的應(yīng)用中,對(duì)開(kāi)關(guān)頻率要求較高,比如前面提到OPPO在手機(jī)快充電路中用一顆GaN開(kāi)關(guān)管替代以往兩顆硅基MOSFET的操作。
無(wú)論如何,業(yè)界對(duì)低壓GaN器件的研究還在繼續(xù),不少研究團(tuán)隊(duì)都在這個(gè)方向努力,比如德國(guó)Fraunhofer IAF研究所的科學(xué)家在PCIM2021上發(fā)表過(guò)關(guān)于緊湊型低壓GaN HEMT設(shè)計(jì)的論文。或許隨著成本的持續(xù)降低,以及快充等需求的持續(xù)升級(jí),低壓GaN器件會(huì)有取代硅的一天。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
GaN
+關(guān)注
關(guān)注
19文章
2193瀏覽量
76586
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
新型功率器件的老化測(cè)試方法
隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,新型功率器件如碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)因其優(yōu)異的性能被廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備中。然而,這些器件在長(zhǎng)期連續(xù)使用后會(huì)出現(xiàn)老化現(xiàn)象,導(dǎo)致性能退化。如何在短時(shí)間內(nèi)

基于德州儀器TOLL封裝GaN器件優(yōu)化電源設(shè)計(jì)
GaN與SiC功率器件深度解析
本文針對(duì)當(dāng)前及下一代電力電子領(lǐng)域中市售的碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)晶體管進(jìn)行了全面綜述與展望。首先討論了GaN與SiC器件的材料特性及結(jié)構(gòu)差異。基于對(duì)市售GaN與SiC功率晶體

CERNEX窄帶高功率放大器(GaN)
高功率放大器采用堅(jiān)固的帶狀線電路架構(gòu),并精選GaN器件,確保了卓越的操作可靠性。憑借高功率、高效率、高頻率覆蓋及寬帶性能,CNP GaN系列窄帶高功率放大器已成為現(xiàn)代射頻系統(tǒng)的關(guān)鍵組件,廣泛應(yīng)
發(fā)表于 02-21 10:39
SC1249廣泛應(yīng)用于電子測(cè)試和測(cè)量系統(tǒng),替代ADI AD9208
SC1249廣泛應(yīng)用于電子測(cè)試和測(cè)量系統(tǒng),替代ADI AD9208

目前GaN正逐漸廣泛應(yīng)用的四個(gè)主要中電壓領(lǐng)域
這篇技術(shù)文章由德州儀器(TEXAS INSTRUMENTS)的 Srijan Ashok 撰寫,主要介紹了中電壓氮化鎵(GaN)在四種應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用情況,強(qiáng)調(diào)其對(duì)電子設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)型的推動(dòng)

垂直與橫向GaN功率器件單片集成的高效隔離技術(shù)
。這項(xiàng)技術(shù)為橫向和垂直GaN(vGaN)器件的單片集成提供了一種簡(jiǎn)單且可靠的潛在方法。垂直GaN器件橫向GaNHEMT器件已

遠(yuǎn)山半導(dǎo)體1700V GaN器件的特性測(cè)試方案
遠(yuǎn)山半導(dǎo)體在連續(xù)推出幾款高壓GaN器件后,最終將他們最新款產(chǎn)品的額定電壓推向1700V,相較于之前的1200V器件又有了顯著的提升。為了解決GaN器

安森美GaN功率器件的功能和優(yōu)點(diǎn)
GaN功率器件的應(yīng)用在消費(fèi)類產(chǎn)品電源近年相當(dāng)普及,大大提升了電源的效率和功率密度,其優(yōu)點(diǎn)和用量遞增,也逐漸延伸到服務(wù)器和工業(yè)電源領(lǐng)域。 安森美(onsemi)新推出的iGaN NCP5892x系列,集成eGaN與驅(qū)動(dòng)電路一體化,讓電源工程師在

CoolGaN和增強(qiáng)型GaN區(qū)別是什么
: 定義 :CoolGaN是英飛凌(Infineon)公司推出的一系列基于氮化鎵(GaN)技術(shù)的產(chǎn)品品牌或系列名稱。它代表了英飛凌在GaN功率器件領(lǐng)域的技術(shù)成果和產(chǎn)品線。 范疇 :CoolGaN系列產(chǎn)品包括但不限于增強(qiáng)型HEM
芯干線科技GaN功率器件及應(yīng)用
第一代半導(dǎo)體材料以硅(Si)和鍺(Ge)為代表,它們?yōu)榘雽?dǎo)體行業(yè)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。隨著技術(shù)的發(fā)展,第二代半導(dǎo)體材料以砷化鎵(GaAs)和銻化銦(InSb)為核心,這些材料的高頻和高速特性,為電子器件

GaN晶體管的應(yīng)用場(chǎng)景有哪些
GaN(氮化鎵)晶體管,特別是GaN HEMT(高電子遷移率晶體管),近年來(lái)在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景。其出色的高頻性能、高功率密度、高溫穩(wěn)定性以及低導(dǎo)通電阻等特性,使得GaN晶體
GaN晶體管的基本結(jié)構(gòu)和性能優(yōu)勢(shì)
GaN(氮化鎵)晶體管,特別是GaN HEMT(高電子遷移率晶體管),是近年來(lái)在電力電子和高頻通信領(lǐng)域受到廣泛關(guān)注的一種新型功率器件。其結(jié)構(gòu)復(fù)雜而精細(xì),融合了多種材料和工藝,以實(shí)現(xiàn)高效
GaN MOSFET 器件結(jié)構(gòu)及原理
GaN MOSFET(氮化鎵金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)是一種新型的功率器件,具有高功率密度、高效率和快速開(kāi)關(guān)速度等優(yōu)點(diǎn)。與傳統(tǒng)的硅基MOSFET相比,GaN MOSFET具有更高的電子遷移率
評(píng)論