盛美上海首臺前道ArF工藝涂膠顯影設備Ultra LITH順利出機
來源：盛美上海
近日盛美上海首臺具有自主知識產權的涂膠顯影Track設備Ultra LITH成功出機，順利向中國國內客戶交付首臺前道ArF工藝涂膠顯影Track設備，該設備由盛美半導體設備(亞太)制造中心完成出貨，這是該公司提升其在涂膠和顯影領域內專業技術的重要一步。
此外，盛美上海將于2023年推出i-line型號設備，并且公司已開始著手研發KrF型號設備。前道涂膠顯影Track設備Ultra LITH的出貨是盛美上海持續拓展產品系列的又一成果，公司致力于成為晶圓級的工藝解決方案平臺，旗下產品還包括單晶圓及槽式濕法清洗設備、電鍍設備、無應力拋光設備、立式爐管設備，及PECVD設備。
審核編輯黃昊宇
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