ASML的EUV***研發(fā)歷程
euv即極紫外線光刻技術(shù)是光刻技術(shù)領(lǐng)域的新技術(shù)，被視為未來半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要部分。但是，euv技術(shù)的開發(fā)存在很多困難，仍然存在局限性。
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域***生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的***生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。共花費(fèi)了7年的時(shí)間。2019年，asml發(fā)布了euv的第一個(gè)量產(chǎn)版本asmlnxe:3400c，宣布euv***技術(shù)的正式量產(chǎn)階段。
在asml中，euv***的開發(fā)過程也很長。asml將從2001年開始投入巨額資金和人力，到2019年批量生產(chǎn)，歷時(shí)10年完成。這體現(xiàn)了euv***技術(shù)在發(fā)展過程中所克服的技術(shù)難題和挑戰(zhàn)。
asml公司的euv***技術(shù)的突破是***領(lǐng)域的偉大成就，但據(jù)許多報(bào)道，***的突破并不完全是事實(shí)。也有媒體不正確或報(bào)道不完全或夸張描寫，試圖吸引眼球的情況。
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