Atonarp 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制

先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質譜儀, 適用于先進半導體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.

分子測量
快速，靈敏度達到十億分之一檢測殘留氣體 / 冷凝物污染.

提高產量
提供化學特定的可操作見解, 盡可能地提高產量

提高安全性
監測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.

Aston? 質譜儀解決了關鍵的原位計量問題

? 提高吞吐量:端點檢測而不是基于時間的流程
? 提高產量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產物

Aston? 質譜儀先進工藝的優勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監控，以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔

Atonarp Aston? 技術參數

類型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型號	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
質量分離	四級桿
真空系統	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵
檢測器	FC /SEM
質量范圍	2-285	2-220	2-285
分辨率	0.8±0.2
檢測限	0.1 PPM
工作溫度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)	400 x 240 x 325 LxWxH(mm)